지식나눔

금속시편에 연질화 후 N 및 C농도 분석 문의

안녕하세요

최근 철강재료에 연질화 실험을 하고 있습니다.

연질화 후 시편 표면에 형성되는 화합물층의 탄소 및 질소 농도를 측정하려고 합니다.

하지만 경원소 측정은 EPMA로 어렵다고 하는데 이 말이 맞는 것일까요?

만약 말이 맞다면 탄소 및 질소 at%를 제대로 측정하려면 어느 분석 방법이 가장 적절할까요?
  • 연질화
  • EPMA
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
답변 4
  • 답변

    최규석님의 답변

    안녕하세요.
    원소분석기로 분석이 되지 않을까 싶네요.
    한국건설생활환경시험연구원에서 금속재료의 원소분석이 가능했던 장비가 있었습니다.
    아래 사이트에 문의 하시면 될 것 같습니다.
    http://www.kcl.re.kr/site/main/index001
    아울러 제우스(https://www.zeus.go.kr/main?environment=PC) 사이트에 가셔서
    검색을 하시면 원소분석기 중 가까운곳의 분석기관을 찾을 수 있을 것 같습니다.   
    안녕하세요.
    원소분석기로 분석이 되지 않을까 싶네요.
    한국건설생활환경시험연구원에서 금속재료의 원소분석이 가능했던 장비가 있었습니다.
    아래 사이트에 문의 하시면 될 것 같습니다.
    http://www.kcl.re.kr/site/main/index001
    아울러 제우스(https://www.zeus.go.kr/main?environment=PC) 사이트에 가셔서
    검색을 하시면 원소분석기 중 가까운곳의 분석기관을 찾을 수 있을 것 같습니다.   
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  • 답변

    김병관님의 답변

    시료 표면의 미량 C,N를 X-ray Photoelectron. Spectroscopy (XPS)로 분석할수도 있을 것 같습니다.

    또는, 유도결합 플라즈마 질량분석기 (ICP-MS)로도 가능할 수 있을 것 같은데 제우스에서 장비검색하시고 담당자와 토의해보는게 좋을 것 같습니다.
    시료 표면의 미량 C,N를 X-ray Photoelectron. Spectroscopy (XPS)로 분석할수도 있을 것 같습니다.

    또는, 유도결합 플라즈마 질량분석기 (ICP-MS)로도 가능할 수 있을 것 같은데 제우스에서 장비검색하시고 담당자와 토의해보는게 좋을 것 같습니다.
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  • 답변

    정연학님의 답변

    WD-XRF:  파장 분산형 XRF를 이용한 비파괴 원소분석(B~U) 가능하여 이것이 좋지 않을까 합니다.
    ICP로 측정가능 할 것 같습니다.
    EPMA: 금속의 정밀원소분석(정량, 정성분석)
    XPS:표면원소의 정성 및 정량분석, 막의 깊이 분석 및 구조분석

    KTR, KTL, 한국고분자 시험 연구원 등 분석 가능한 기관에 정확하게 하고자 하는것을 의뢰하시면 
    원하는 어는 것이 더 좋은지 확인 가능할 겁니다.
    WD-XRF:  파장 분산형 XRF를 이용한 비파괴 원소분석(B~U) 가능하여 이것이 좋지 않을까 합니다.
    ICP로 측정가능 할 것 같습니다.
    EPMA: 금속의 정밀원소분석(정량, 정성분석)
    XPS:표면원소의 정성 및 정량분석, 막의 깊이 분석 및 구조분석

    KTR, KTL, 한국고분자 시험 연구원 등 분석 가능한 기관에 정확하게 하고자 하는것을 의뢰하시면 
    원하는 어는 것이 더 좋은지 확인 가능할 겁니다.
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  • 답변

    김주남님의 답변

    질문자의 상황을 보면 표면에 있는 C,N의 함유량을 정량적으로 알고 싶다면 걸로 이해가 됩니다.
    그렇다면 WD-XRF는 힘들거 같구요. X선이 침투하는 깊이 만큼의 모든 정보를 얻으니깐요.
    ICP는 샘플을 산에 녹여서 측정하는 형태라 이것또한 좀 다른거 같네요.
    EPMA는 질문자의 말 대로고.
    XPS가 가장 적합할 것 같네요. Etching하면서 depth profile을 얻으면 되지 않을까 싶습니다.
    이때 측정 전에 되도록이면 샘플을 가열해서 표면에 있는 불순물을 제거하는 작업을 꼭 해주세요.
    XPS라고 해도 보통 40~50 nm는 디폴트로 측정됩니다.
    이상 궁금한거 있으시면 메세지 주세요.
    질문자의 상황을 보면 표면에 있는 C,N의 함유량을 정량적으로 알고 싶다면 걸로 이해가 됩니다.
    그렇다면 WD-XRF는 힘들거 같구요. X선이 침투하는 깊이 만큼의 모든 정보를 얻으니깐요.
    ICP는 샘플을 산에 녹여서 측정하는 형태라 이것또한 좀 다른거 같네요.
    EPMA는 질문자의 말 대로고.
    XPS가 가장 적합할 것 같네요. Etching하면서 depth profile을 얻으면 되지 않을까 싶습니다.
    이때 측정 전에 되도록이면 샘플을 가열해서 표면에 있는 불순물을 제거하는 작업을 꼭 해주세요.
    XPS라고 해도 보통 40~50 nm는 디폴트로 측정됩니다.
    이상 궁금한거 있으시면 메세지 주세요.
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