Engineering Interfacial Processes at Mini-Micro-Nano Scales Using Sessile Droplet Architecture
2018-04-03
org.kosen.entty.User@1c947fc0
홍지우(hjw1425)
분야
화공
개최일
2018년 2월 22일
신청자
홍지우(hjw1425)
개최장소
URL
행사&학회소개
1. INTRODUCTION
2. ASPECTS OF THE NATURAL EVAPORATION OF COLLOIDAL DROPLETS
3. EFFECT OF EXTERNAL STIMULI
4. VAPOR-MEDIATED SUPPRESSION OF EVAPORATION: INTERACTING DROPLETS
5. DROPLET IN A CONFINED GEOMETRY: VAPOR？WALL INTERACTION
6. CHEMICAL TAILORING BY SURFACTANT ADDITION
6. DUAL WETTABILITY LEADS TO WALL-LESS CONFINEMENT
7. CONCLUSIONS
2. ASPECTS OF THE NATURAL EVAPORATION OF COLLOIDAL DROPLETS
3. EFFECT OF EXTERNAL STIMULI
4. VAPOR-MEDIATED SUPPRESSION OF EVAPORATION: INTERACTING DROPLETS
5. DROPLET IN A CONFINED GEOMETRY: VAPOR？WALL INTERACTION
6. CHEMICAL TAILORING BY SURFACTANT ADDITION
6. DUAL WETTABILITY LEADS TO WALL-LESS CONFINEMENT
7. CONCLUSIONS
보고서작성신청
콜로이드의 액적의 증발은 표면 패터닝, 3D 프린팅, 광자 결정 및 DNA 시퀀싱과 같은 다양한 산업 및 생물학적 응용 분야에 있어서 최종 결과물를 제어하는 기본 빌딩 블록 역할을 한다. 본 논문에서는 콜로이드 액적의 증발 유동 및 접촉선에 의해 구동되는 입자의 거동과 관련된 물리적 원리들을 검토하고 이를 제어하기 위한 방법들을 다루고 있다. 액적 증발 단계에서 지배적인 계면 메커니즘에 대한 심도있게 이해한다면, 제조, 혼합 및 진단 기반 응용 분야에 있어 매우 유용할 것으로 예상된다.