요구되는 공기의 청정도는 공기청정의 목적 및 그 대상에 따라 다르다. 예를 들면, 대도시 대기 중에는, 입자지름 0.5μm이상의 미립자가 1ft3당 수백 만개 정도 존재하는데, 그것에 대해 클린룸은 일반적으로 미립자를 10만개/ft3 이하로 한 청정한 공간이다. 집적회로(IC나 LSI)제조 등의 반도체공업분야에서는 더욱 엄한 수준이 요구된다. LSI의 회로패턴은 전자현미경으로 봐야 알아볼 수 있을 정도로 치밀한 것으로, 집적도가 늘수록 그 치밀함은 증가한다. 이에 CNF의 응용에 대해 고찰해보고자 한다