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반도체제조용 플라즈마 소스 선행기술에 관해

반도체 제조 전공정 장비중 에칭과 CVD의 플라즈마 소스에 관한 선행기술에 대한 종합적인 트렌드가 향후 Small Feature Size에 대응하기 위해 필요할 것같습니다.
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답변 1
  • 답변

    김재남님의 답변

    >반도체 제조 전공정 장비중 에칭과 CVD의 플라즈마 소스에 관한 >선행기술에 대한 종합적인 트렌드가 향후 Small Feature Size에 대응하기 위해 필요할 것같습니다. 질문하신 내용은 관련 기술동향을 원하시는 것 같은데...(아니라면 추후 다시 올려주시기 바랍니다) 연구개발정보센터(www.kordic.re.kr)의 "해외과학기술동향"에서 관련키워드로 검색하시면 해외의 관련 기술동향정보를 보실 수 있습니다. 또한 참고로 국내 반도체 포탈사이트 세미파크(www.semipark.co.kr)에 가보시면 도움이 될 것 같습니다.
    >반도체 제조 전공정 장비중 에칭과 CVD의 플라즈마 소스에 관한 >선행기술에 대한 종합적인 트렌드가 향후 Small Feature Size에 대응하기 위해 필요할 것같습니다. 질문하신 내용은 관련 기술동향을 원하시는 것 같은데...(아니라면 추후 다시 올려주시기 바랍니다) 연구개발정보센터(www.kordic.re.kr)의 "해외과학기술동향"에서 관련키워드로 검색하시면 해외의 관련 기술동향정보를 보실 수 있습니다. 또한 참고로 국내 반도체 포탈사이트 세미파크(www.semipark.co.kr)에 가보시면 도움이 될 것 같습니다.
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