2002-04-09
org.kosen.entty.User@4a222123
변경문(caught)
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박막(thin film)을 제조하는 습식법들중 sol-gel법과 MOD
(Metalorganic decomposition)법이 있는데 이 두 방법의 차이점이 어
떻게 되는지요?
- thin film
- semiconductor
- deposition
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 2
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답변
김정화님의 답변
2002-04-12- 0
MOD와 sol-gal방법은 spon-on 공정으로 박막 두께의 불균일성과 더불어 non-planar한 형상을 갖는 박막의 제조가 어려우며, MOCVD 및 sputtering 공정에서는 다성분계 기상 원료나 타？？target) 제조의 어려움이 가장 큰 문제점으로 지적받고 있습니다. 두 공정은 모두 다성분게 액상 precursor를 사용하고 있습니다. sol-gal법은 세라믹 이나 유리등을 기존의 방법보다 낮은 온도에서 더 높은순도와 동질성을 생산하는 화학제조공정으로 화학반응에 있어서 액상의 화학제품이 고상으로 전환되는 과정의 여러 형태복합물을 생성하는데 사용됩니다. 기존 방법으로 불가능했던 "낮은 소성온도에서의 복합물 생성" 은 솔-겔 공법의 가장 매력적인 특성입니다. 그리고 전이금속의 안정한 전자가를 유지하기 위하여 그리고회전코팅으로 박막을 제조하기 위하여 채택되었습니다. 하지만 고가의 시약이 문제로 지목되고 있습니다. 이를 시약 대신 금속염으로 출발한 공정이 MOD공정이라고 할 수 있습니다. http://www.hongik.edu/~itmtls/explorer/prof/ohts.html *** 다른 전문가분들의 많은 참여바랍니다. -
답변
김정화님의 답변
2002-04-15- 0
sol-gel process에서는 gel 형성을 위한 long-chain molecule을 만드는데 hydrolysis 반응이 필요하나, MOD 공정에서는 hydrolysis가 필요하지 않다는 것이 근본적인 차이입니다. sol-gel process에서는 hydrolysis 반응이 가능한 alkoxide compounds를 precursor로 사용하나, MOD에서는 carboxylate compounds를 사용합니다. sol-gel과 MOD 공정에 대한 차이를 더 잘 이해하시려면 다음의 reference를 참조하기 바랍니다. \"Solution Deposition of Ferroelectric Thin Films\" - MRS Bulletin, June 1996. > > > > 문의 멜 : ohts@hongik.ac.kr