2002-05-04
org.kosen.entty.User@729c8674
성진욱(cermetal)
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일단 저의 질문에 관심을 가져주셔서 감사합니다..
제가 사용하고 있는 재료는 al doped ZNO입니다.. 도핑량은 2 WT%이구요
그리고 투과도 측정범위는 300-700 nm이고 산소는 아르곤과 산소 혼합가
스로 스퍼링시 주입하였습니다..
그럼..
- ion beam sputtering
- al doped ZnO
- TRANSMITTANCE
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
김덕양님의 답변
2002-05-06- 0
재밌는 주제로 연구를 하고 계시는 군요. 제가 보기에는 Zn( 2wt.% doped Al) metal target 을 이용한 reactive ion sputtering 으로 Al-doped ZnO 을 quartz 같은 투광기판위에 하고 계시는 것 같군요. ZnO 의 UV-VIS 스펙트럼을 보질 못해서 잘은 모릅니다만 일단 비정질 (amorphous) 로 박막증착을 성공하셨다면 투과도에는 차이가 없어야 할 것 같습니다. 산소주입량에 따라서 같은 기판온도일 경우에도 박막의 미세구조가 변화하는 곳이 있거든요. (Thornton Diagram 참조) 그런 경우에는 scattering center (300nm 사이즈의 grain 들) 가 생겨나서 투과도가 낮아질 수 있을 것 같습니다. 그냥 개괄적인 점만을 답해드렸습니다. 김덕양 드림. >일단 저의 질문에 관심을 가져주셔서 감사합니다.. > >제가 사용하고 있는 재료는 al doped ZNO입니다.. 도핑량은 2 WT%이구요 > >그리고 투과도 측정범위는 300-700 nm이고 산소는 아르곤과 산소 혼합가 >스로 스퍼링시 주입하였습니다.. > >그럼..