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지식나눔

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반도체 장비 중 Track/Coater/Developer에 관해 알고 싶어요

2002-06-04 org.kosen.entty.User@637bd427 홍상훈(hshun69)
  • 1
항상 좋은 정보를 빠르게 접할 수 있어 KOSEN 담당자 및 패널께 감사드립 니다. 제가 궁금한 것은 반도체 제조 공정 중 Photolithography에 관한 것입니 다. 그 중 Spin coater/Track/Developer에 관한 기술 자료및 동향에 대해 서 알고 싶습니다. 아시는 분이 있으시면 조그만한 정보라도 감사하게 활 용하겠습니다.
  • Spin coater
  • Track
  • Developer
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답변 1
  • 답변

    고창현님의 답변

    2002-06-11
    • 0
    최근의 track설비는 보통 coater와 developer 기능을 동시에 수행할 수 있도록 설계되어있습니다. coater는 점성이 있는 photoresist (PR)를 회전하는 substrate에 뿌려서 원하는 두께로 coating하는 장비를 말합니다. 도포를 위한 부대장비로는 계면특성을 향상시키기 위한 HMDS 처리 설비, heater등이 부대적으로 갖추었다면 좋은 장비일 것입니다. developer는 NH4OH 수용액을 사용하며 노광된 PR을 선택적으로 제거하는 공정입니다. 요즈음은 빛을 받아서 NH4OH 수용액에 녹아서 제거되는 방식의 PR에 적합하도록 공정이 최적화 되어있으며 heater등이 부대적으로 갖추어야 합니다. 공개된 자세한 자료는 www.semibank.net에서 찾아보시면 될 것으로 생각됩니다.
    답변수정
    최근의 track설비는 보통 coater와 developer 기능을 동시에 수행할 수 있도록 설계되어있습니다. coater는 점성이 있는 photoresist (PR)를 회전하는 substrate에 뿌려서 원하는 두께로 coating하는 장비를 말합니다. 도포를 위한 부대장비로는 계면특성을 향상시키기 위한 HMDS 처리 설비, heater등이 부대적으로 갖추었다면 좋은 장비일 것입니다. developer는 NH4OH 수용액을 사용하며 노광된 PR을 선택적으로 제거하는 공정입니다. 요즈음은 빛을 받아서 NH4OH 수용액에 녹아서 제거되는 방식의 PR에 적합하도록 공정이 최적화 되어있으며 heater등이 부대적으로 갖추어야 합니다. 공개된 자세한 자료는 www.semibank.net에서 찾아보시면 될 것으로 생각됩니다.
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