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지식나눔

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Solvent dissolving silica

2003-01-01 org.kosen.entty.User@6e850a2e 황영주(giantess)
  • 1
silica 세라믹 3차원 모형에 Rhenium을 입혀 성형한후, 사용되었던 silica를 제거하는 방법을 연구중에 있습니다. 상온에서 화학물질을 써서 제거하는 방법을 찾고 있는데(Rhenium을 손상시키지 않고), 조언 부탁드립니다. 감사합니다. 새해 복 많이 받으세요.
  • silica
  • dissolve
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답변 1
  • 답변

    안치원님의 답변

    2003-01-02
    • 0

    첨부파일

    아마도 아시겠지만, silica 제거방법으로 많은 경우에 HF 용액 (안전 주의 http://www-ee.eng.hawaii.edu/~pel/user/safety/hf.html ) 을 사용하는데요, 다음은 etching solution data 입니다. Buffered HF: 6 parts NH4F (40%) + 1 part HF (49%). Etch rate of SiO2 at room temperature is ~ 750 Å/min. Dilute HF: 25 parts H2O + 1 part HF (49%) . (http://www.ee.upenn.edu/~microfab/NewUsers/Etching.html) Rhenium 의 경우도 적용 가능한것 같습니다. Reaction of rhenium with acids ( www.webelements.com/webelements/elements/text/Re/chem.html ) 자료를 참조하시기 바랍니다. 첨부화일은 SiO2 /HF etching rate 측정 관련 논문 입니다. >silica 세라믹 3차원 모형에 Rhenium을 입혀 성형한후, 사용되었던 silica를 제거하는 방법을 연구중에 있습니다. 상온에서 화학물질을 써서 제거하는 방법을 찾고 있는데(Rhenium을 손상시키지 않고), 조언 부탁드립니다. 감사합니다. > >새해 복 많이 받으세요.
    답변수정
    아마도 아시겠지만, silica 제거방법으로 많은 경우에 HF 용액 (안전 주의 http://www-ee.eng.hawaii.edu/~pel/user/safety/hf.html ) 을 사용하는데요, 다음은 etching solution data 입니다. Buffered HF: 6 parts NH4F (40%) + 1 part HF (49%). Etch rate of SiO2 at room temperature is ~ 750 Å/min. Dilute HF: 25 parts H2O + 1 part HF (49%) . (http://www.ee.upenn.edu/~microfab/NewUsers/Etching.html) Rhenium 의 경우도 적용 가능한것 같습니다. Reaction of rhenium with acids ( www.webelements.com/webelements/elements/text/Re/chem.html ) 자료를 참조하시기 바랍니다. 첨부화일은 SiO2 /HF etching rate 측정 관련 논문 입니다. >silica 세라믹 3차원 모형에 Rhenium을 입혀 성형한후, 사용되었던 silica를 제거하는 방법을 연구중에 있습니다. 상온에서 화학물질을 써서 제거하는 방법을 찾고 있는데(Rhenium을 손상시키지 않고), 조언 부탁드립니다. 감사합니다. > >새해 복 많이 받으세요.
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