2003-01-21
org.kosen.entty.User@711a7e94
박수범(parksb0703)
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particle size가 10nm이하, 20~30nm, 40nm이상으로 조절하여
SiO2 sol을 제조해야하는데...
방법을 모르겠습니다.
완전 초보라...
배우고싶습니다.
이 분야를 연구하시는 분이나, 자료를 가지고 계신분
도와주십시오..
- silica
- sol-gel
- SiO2
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 4
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답변
한치환님의 답변
2003-01-21- 0
SiO2를 졸젤법으로 합성하려면 Trimethoxysilane(TMOS) 을 사용하여 hydrolysis 시키면 졸을 거쳐 젤이 형성될 것입니다. 이것을 고온에서 구우면 SiO2를 합성할 수 있지요. 입자크기를 조절하려면 용매와 TMOS의 양의 비율을 조절하면 가능 할거 같습니다. 아마 졸젤에 관련된 책자를 아무거나 구해서 보아도 SiO2합성에 대한 자료는 얻을 수 있을 겁니다. -
답변
곽지혜님의 답변
2003-01-21- 0
구체적인 방법을 말씀드리면, Sol-gel로도 원하시는 결과물에 따라 TMOS나 TEOS, 산촉매나 염기 촉매, 첨가제 등등의 선택이 다양할 수 있으나 예를 들면, TEOS in ethanol을 용매로 하고 0.2M HCl 수용액을 촉매로 사용, 교반 혼합후 고분자 첨가제 TX35를 첨가, 혼합하신 후 건조ㅡ소성을 거치면 SiO2를 얻으실 수 있습니다. 구체적으로는 졸겔의 바이블(?)인 C.J. Brinker and G.W. Scherer, Sol-gel science, Academic Press, New York을 참 고하시고, 한 예로 10nm 이하를 위한 혼합비 예를 쪽지로 보내드립니다. 일단 해보십시요.^^ >particle size가 10nm이하, 20~30nm, 40nm이상으로 조절하여 >SiO2 sol을 제조해야하는데... > >방법을 모르겠습니다. > >완전 초보라... >배우고싶습니다. > >이 분야를 연구하시는 분이나, 자료를 가지고 계신분 >도와주십시오.. -
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곽지혜님의 답변
2003-01-22- 0
이메일로 문의하신 내용을 이메일로 보냈습니다. >particle size가 10nm이하, 20~30nm, 40nm이상으로 조절하여 >SiO2 sol을 제조해야하는데... > >방법을 모르겠습니다. > >완전 초보라... >배우고싶습니다. > >이 분야를 연구하시는 분이나, 자료를 가지고 계신분 >도와주십시오.. -
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안치원님의 답변
2003-01-31- 0
다음 주소는 수원대 윤종걸 교수님 랩 홈페이지 링크 사이트 입니다. 졸-겔 반응에 대해 잘 정리되어 있습니다. http://phys.suwon.ac.kr/~jgyoon/lab/solgel.htm 그리고 실리카 졸 10 - 40 nm... 만드는 것도 중요하지만, 제조 후 정확한 졸의 크기, 크기분포의 측정도 중요할 것 같습니다. TEM 으로 측정하실 거라면, 표본 sampling 을 잘 하셔야 합니다.