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지식나눔

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위상 변위 마스크 물질의 특허에 관한 질문

2003-03-31 org.kosen.entty.User@3f573fc 김성관(ksgyon@)
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248 nm, 193 nm, 157 nm 광 리소그래피용 위상변위 마스크 물질로 어떤 물질이 특허로 등록되어있는지 좀 알고싶습니다. 특허는 국내 뿐만아니라 국제 특허를 포함합는 자료로 부탁드립니다.
  • 위상 변위 마스크
  • 특허
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