2003-11-06
org.kosen.entty.User@2e8fc795
정석준(teggunv)
- 1
반도체 웨이퍼 제작에 있어서,
Bare wafer의 기본적인 사양을 결정할 때 Cryatal orientation을 결정하게 됩니다.
<100> 이나 <111> 등으로 결정을 하게 되는데, 이것이 의미하는 것이 무엇인지,
어떤 장단점이 있는지 알려주시면 감사하겠습니다.
그럼 좋은 하루되세요.
- Crystal Orientation
- wafer
- <100> <111>
지식의 출발은 질문, 모든 지식의 완성은 답변!
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
답변 1
-
답변
윤찬수님의 답변
2004-05-20- 0
>반도체 웨이퍼 제작에 있어서, >Bare wafer의 기본적인 사양을 결정할 때 Cryatal orientation을 결정하게 됩니다. ><100> 이나 <111> 등으로 결정을 하게 되는데, 이것이 의미하는 것이 무엇인지, >어떤 장단점이 있는지 알려주시면 감사하겠습니다. > >그럼 좋은 하루되세요. 안녕하세요? 실리콘 wafer의 orientation은 결국 소자의 이동도(Mobility)와 이온 주입시 channeling과 밀접한 관계가 있습니다. 예를 들어 정육면체의 각 코너에 당구공이 하나씩 붙어있는 모양을 상상하시고 이를 단면으로 바라보면<100> 당구공은 4개만 보이겠죠? 그런데 이를 비스듬히 세워서 한쪽 코너에서 바라본다면<111> 최소 6개 이상의 당구공이 보일겁니다. 이러한 육면체에 화살을 쏜다면 화살은 <111>쪽이 훨씬 많이 부딛히며 날아가 결국은 <100>보다는 조금밖에 못 날아가겠죠? 이와 비슷한 원리입니다. 원자의 방향성은 이온주입시 주입되는 이온의 scattering과 전자/전공의 전계에 의한 이동시 이동도(mobility)에 영향을 주게 되는 것이지요. 최근에는 3차원 구조등의 소자가 개발되면서 각 전자가 흘러가는 방향성이 각기 달라 이를 어떻게 모델링하느냐하는 issue도 있습니다. 결국 crytal orientation에 따른 문제이지요. 너무 간단히 예를 들어 죄송합니다. 물리전자 관련 책들의 대부분 첫 chapter가 이와같은 Crystal Strucure에 관한 내용을 다루고 있습니다. 자세한 내용은 이러한 책들을 참고하시면 도움이 되실 것입니다.