2004-12-21
org.kosen.entty.User@2499a28
박성진(photon2)
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안녕하세요,
Mo, Ni 등의 금속을 sputtering을 이용하여 유리기판 위에 300 nm 내외의 두께로 형성하였을 때, 이러한 박막의 밀도를 측정할 수 있는 방법은 무엇인지요 ?
사용되는 기법과, 장비...아울러서 측정해 볼 수 있는 기관을 추천해 주시면 고맙겠습니다.
- density
- metal
- thin film
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 2
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답변
이호철님의 답변
2004-12-21- 0
XRR (X-ray reflectivity)라는 장비를 통해 박막의 밀도측정가능 합니다.. 일반적인 XRD장비가 X-ray의 diffraction을 이용하지만, XRR은 X-ray의 반사를 통해 박막의 전반적인 두께/거칠기/밀도를 추정할 수 있습니다. 일단 XRR장비를 통해 2-theta 약 ~3~4도까지의 X-ray의 반사율정보를 얻은뒤, 이를 curve-fitting합니다. fitting할때 넣어주어야 하는 정보는 박막의 두께/표면거칠기/밀도등 입니다. 이경우, 두께와 표면거칠기는 측정에 의해 미리 알수 있는 값이므로, 밀도는 fitting에 의해 얻을수 있습니다. XRD장비와 비슷하기 때문에...XRD 운용하시는 분한테 문의하시면 더 자세한 정보얻을수 있을것 같습니다. 감사합니다. >안녕하세요, > >Mo, Ni 등의 금속을 sputtering을 이용하여 유리기판 위에 300 nm 내외의 두께로 형성하였을 때, 이러한 박막의 밀도를 측정할 수 있는 방법은 무엇인지요 ? > >사용되는 기법과, 장비...아울러서 측정해 볼 수 있는 기관을 추천해 주시면 고맙겠습니다. > > -
답변
김효정님의 답변
2005-02-01- 0
윗분의 말씀처럼 x-ray reflectivity로 측정은 가능합니다만.. 박막 두께가 300nm라면, 두께에 의한 oscillation을 측정하기 힘듭니다. reflectivity curve를 얻고, curve fitting을 하는데.. 박막의 두께때문에 나타나는 oscillation이 clear할수록 fitting이 용이하기때문입니다. 그래서, 300nm의 경우 엑스선의 relosution이 좋아야 하는데... 일반적인 실험실 엑스선이라면 측정하기 힘들 수 있습니다. 특별히 박막용으로 high-reolution으로 세팅된 XRD가 아니라면, critical angle을 측정해서 밀도를 계산 할 수 있습니다. 그런데, 이 경우.. 박막의 quality에 따라 critical angle이 제대로 측되지 않을 수 있습니다. 결론은.. 300nm 정도의 두께는 x-ray reflectivity로 측정하기엔 좀 애매합니다. 박막 quality와 XRD resolution에 따라서 가능하기도 하고, 측정 못할수도 있습니다.