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윤석민님의 답변
2005-05-09- 0
반도체용 현상핵으로는 일반적으로 tetramethyl ammonium hydroxide (TMAH) 라는 화학물질이 널리 사용되고 있습니다. 이 화학물질을 제조하는 것은 어렵지 않으나 반도체용 현상핵으로 쓰이기 위해서는 순도가 매우 높아야 하는데 이러한 조건을 만족시킬 만한 제품을 제작할 수 있는 회사들은 미국, 일본, 한국 등에 한정되어 있었습니다. 반도체용 현상액은 포토리지스트에 노광을 한 후 노광된 부분을 조각하듯이 씻어내는 (식각) 물질이므로 포토리지스에 균일하게 부착되어 반응하는 것이 중요합니다. 이렇게 되어야 균일하게 critical dimension (CD)를 제어할 수 있기 때문입니다. 또한 최근에는 CD가 작아지면서 현상 후 패턴이 무너지는 현상 때문에 현상액에 surfactant 등의 물질을 첨가하여 화학물질의 표면 장력을 줄여줌으로써 패턴이 무너지는 현상을 방지하는 연구가 활발히 진행되고 있습니다. 더욱, 자세한 점을 알고 싶으시면 www.google.com등에서 자료를 찾으실 수 있으며 제가 최근 읽은 자료 중 흥미로운 자료의 URL을 첨부하오니 참고하시기 바랍니다. http://www.micromagazine.com/archive/02/06/zhang.html >반도체용 현상액에 대한 자료를 급히 좀 부탁합니다.