2005-06-14
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임성순(nal4)
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화학적인 산화로 만든 SiO2 내에 존재하는 수분과 OH-기를 탈착시키려면 어느정도의 온도가 필요한가요..
산소와 OH-기의 탈착이 발생하는 온도에 관한 문헌이 있다면 부탁드립니다..
- desorption
- water and hydroxyl
- SiO2
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답변 2
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답변
이철경님의 답변
2005-06-15- 0
>화학적인 산화로 만든 SiO2 내에 존재하는 수분과 OH-기를 탈착시키려면 어느정도의 온도가 필요한가요.. >산소와 OH-기의 탈착이 발생하는 온도에 관한 문헌이 있다면 부탁드립니다.. 일반적으로 흡착수와 결정수로 구분할 수 있으며, 흡착수는 100oC 내외에서 탈착되고 결정수는 종류에 따라 200-400oC에서 분해됩니다. 결정수의 분해온도는 물질의 종류, 결정형태, 입자의 크기 및 승온속도에 의해 변합니다. 정확한 온도는 TGA/DTA와 같은 열분석기(thermal analyzer)로 측정이 가능합니다. -
답변
임성순님의 답변
2005-06-15- 0
>화학적인 산화로 만든 SiO2 내에 존재하는 수분과 OH-기를 탈착시키려면 어느정도의 온도가 필요한가요.. >산소와 OH-기의 탈착이 발생하는 온도에 관한 문헌이 있다면 부탁드립니다..