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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 3
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최원균님의 답변
2005-06-22- 0
안녕하세요. 제가 아는 노광의 용도는 개발 제품의 내광성 테스트를 위한 노광과 광감응성 폴리머에 사용되는 것입니다. 질문하신 노광의 목적이 어떤것인지요? 사용목적에 따라 UV영역에는 수은등, metal halide, deterium lamp등이 있고 좀 더 narrow한 쪽에는 UVA(380-313nm), UVB(315-280nm)등의 lamp도 있습니다. 가시영역에는 xenon lamp가 일반적인 형태고요. 램프의 선택과 필터의 조합으로 원하시는 파장범위와 그 감도를 조절하실수 있겠습니다. >노광시 파장에 대해 알고 싶습니다. -
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한용희님의 답변
2005-06-23- 0
>노광시 파장에 대해 알고 싶습니다. 일반적으로 마이크로 사이즈의 노광시 365nm(I line), 405nm(H line) 대의 UV 파장을 사용합니다. 반도체 공정시 사용되는 서브 마이크로 사이즈 노광시 deep UV, extream deep UV를 사용하며 주로 사용하는 파장은 248nm, 175 -178nm 로 알려져 있습니다. -
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김현종님의 답변
2005-06-27- 0
>노광시 파장에 대해 알고 싶습니다. 반도체 공정에서의 노광 파장(wavelength of lithography)은 이용하는 광원인 레이저의 파장입니다. 최근에는 248 nm 파장 외에도 300 mm 웨이퍼를 이용하는 공정에서는 현재 상당수 193 nm 를 이용하고 있으며 다음 단계에서는 157 nm 파장이 이용될 것이라 예상을 하고 있습니다. 한편, 최근에는 전자빔(electron beam)을 이용한 기술도 발달하고 있습니다..