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지식나눔

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반도체 공정에서 사용하는 Gas의 종류

2005-10-18 org.kosen.entty.User@2c19e59d 박만진(jinman)
  • 1
title에 나온 것 처럼.. 반도체 공정상에서 사용되는 gas의 종류에 대해 알고 싶습니다. 장비에 들어가는 gas라든지.. 등등.. 장비에 사용되는 gas에는 어떤 것들이 있는지 알려주세요..
  • 반도체
  • 공정
  • gas
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답변 1
  • 답변

    고상운님의 답변

    2005-10-18
    • 0
    >title에 나온 것 처럼.. > >반도체 공정상에서 사용되는 gas의 종류에 대해 알고 싶습니다. > >장비에 들어가는 gas라든지.. > >등등.. 장비에 사용되는 gas에는 어떤 것들이 있는지 알려주세요.. 반도체공정에 사용하는 gas는 상당히 많습니다. 일부만 나열합니다. 1. 실리콘 및 실리콘산화물 식각: CF4, CHF3, C2F6, SF6, C3F8, CL2, CCLF3, CCL4 2. 실리콘 및 금속 식각: SiCL4 3. 건식식각의 첨가제: O2,H2,He,Ar 등이 있습니다. 어떤 공정에 사용되는 가스를 알고 싶으신가요?
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    >title에 나온 것 처럼.. > >반도체 공정상에서 사용되는 gas의 종류에 대해 알고 싶습니다. > >장비에 들어가는 gas라든지.. > >등등.. 장비에 사용되는 gas에는 어떤 것들이 있는지 알려주세요.. 반도체공정에 사용하는 gas는 상당히 많습니다. 일부만 나열합니다. 1. 실리콘 및 실리콘산화물 식각: CF4, CHF3, C2F6, SF6, C3F8, CL2, CCLF3, CCL4 2. 실리콘 및 금속 식각: SiCL4 3. 건식식각의 첨가제: O2,H2,He,Ar 등이 있습니다. 어떤 공정에 사용되는 가스를 알고 싶으신가요?
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