2006-01-06
org.kosen.entty.User@2a2633d0
최인호(pkhcih)
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Single Wafer Process Equipment란 어떤 공법을 말하는지 알고 싶습니다.
이와관련된 이미지가 있으면 더욱 좋겠네요?
감사합니다.
- Process
- Equipment
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답변 1
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답변
권성구님의 답변
2006-01-09- 0
>Single Wafer Process Equipment란 어떤 공법을 말하는지 알고 싶습니다. >이와관련된 이미지가 있으면 더욱 좋겠네요? >감사합니다. 안녕하세요. 웨이퍼 공정은 크게 두가지로 분류하는 것이 이해하는데 도움이 될 수 있습니다. 하나는 문의하신 Single wafer 공정방식이고, 다른 하나는 Batch 식 공정방식입니다. Single wafer 공정방식은 말그대로 웨이퍼를 1장씩 처리하는 방식으로써, 중요한 공정 변수를 제어하여 공정균일도를 우수하게 유지할 수 있는 장점이 있는 반면, 생산성이 낮다는 단점이 있습니다. 많이 활용하는 공정으로는 식각, 도포, 사진공정등이 있으며, 웨이퍼의 구경이 커짐에 따라서, CVD, Sputter,cleaning등에도 single wafer공정을 도입히는 추세입니다. Batch wafer 공정방식은 thermal oxidation, Thermal LPCVD, Diffusion등 공정 제어가 용이하고, 균일도가 우수한 공정의 경우에는 웨이퍼간의 공정특성의 차이가 거의 나지 않으므로 한꺼번에 많은 웨이퍼를 처리하는 것이 생산성에 유리한 경우가 있습니다. 이런 경우에는 Batch 공정을 주로 사용합니다. 최근에는 반도체의 가격경쟁력을 확보하는 것이 매우 중요한 요소가 되고 있기 때문에, 공정/장비 기술이 향상됨에 따라 기존에 single wafer방식의 공정을 Batch방식으로 다시 전환하는 경향이 있습니다. 따라서, 요구되는 공정규격을 만족할수 있다면, 가능한 한 batch 방식의 공정을 사용하는 것이 바람직합니다. 이러한 판단기준은 생산품목의 공정 특성, 공정의 요구규격, 공정의 연계방식, 생산비용, 유지보수, 장비에 대한 기술적 지원, 다른 개발품목과의 기술의 연속성 및 발전성등 여러가지를 고려하여, 결정하여야 하는 매우 중요한 사항입니다. 관련된 보조자료를 첨부하오니, 활용하시기 바랍니다.