2006-01-24
org.kosen.entty.User@5d3e6659
성진욱(cermetal)
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Evaporation 공정으로 1000도 이내에서 증착이 가능한 물질을 찾고 있습니다.
아울러 1.4 ~ 1.5사이의 굴절률을 가져야합니다.
물질의 용도는 열과 압력으로 하부막 (유기물)을 보호하는 것입니다.
그럼 답변 부탁드립니다.
- Refractive index
- passivation layer
- evaporation
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
임형준님의 답변
2006-02-01- 0
>Evaporation 공정으로 1000도 이내에서 증착이 가능한 물질을 찾고 있습니다. >아울러 1.4 ~ 1.5사이의 굴절률을 가져야합니다. > >물질의 용도는 열과 압력으로 하부막 (유기물)을 보호하는 것입니다. > >그럼 답변 부탁드립니다. > 질문에 의한 답변입니다. > > 굴절률의 기준으로 SiO2가 있읍니다.(기준파장 500nm에서 1.46) > > 또 다른 물질로 불화물 계통이 있는데, 이것은 측정하는 기준파장 > 마다 약간 다르게 나타나기 때문에 검토하시기 바랍니다. > > 대상물질은 MgF2, LiF, CaF2 입니다.