2006-02-24
org.kosen.entty.User@3ad6e0a
양신주(helloalf)
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Sputter를 사용하여 형성된 박막에 있어서 박막을 구성하고 있는 원자들
간의 결합 비율에 관한 질문입니다.
Molybdenum Silicide 타겟을 사용하고 N2O 가스를 사용하여
MoSiON 박막을 형성하였습니다.
위의 박막을 Auger로 분석을 실시한 결과
Mo:16, Si:16, O:49, N:18at%의 비율을 얻었습니다.
상기와 같이 막의 조성비는 측정을 할 수 있지만
원자간 결합 비율을 구하고 싶습니다.
결합 비율에 대해서 구할 수 있는 방법을 알려주시거나
관련 자료를 제공해 주시면 감사하겠습니다.
수고하십시요...
- Thin Film
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
박훈님의 답변
2006-02-26- 0
원자간 결합비율이란 개념이 모호합니다만 결합이 어떻게 되어있냐를 보는 것이 우선일듯 싶습니다. 먼저 결정상태를 XRD로 보신후 각각의 결합을 보기위해서는 역시 EXAFS가 좋습니다. 전자구조나 결합상태는 XPS와 NEXAFS를 이용하시면 좋을 것 같습니다. 도움이 되시길. EXAFS NEXAFS는 포항 가속기연구소 홈페이지를 참고하시기 바랍니다. >Sputter를 사용하여 형성된 박막에 있어서 박막을 구성하고 있는 원자들 > >간의 결합 비율에 관한 질문입니다. > >Molybdenum Silicide 타겟을 사용하고 N2O 가스를 사용하여 > >MoSiON 박막을 형성하였습니다. > >위의 박막을 Auger로 분석을 실시한 결과 > >Mo:16, Si:16, O:49, N:18at%의 비율을 얻었습니다. > >상기와 같이 막의 조성비는 측정을 할 수 있지만 > >원자간 결합 비율을 구하고 싶습니다. > >결합 비율에 대해서 구할 수 있는 방법을 알려주시거나 > >관련 자료를 제공해 주시면 감사하겠습니다. > >수고하십시요... >