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도전막시트

도전막시트의 표면저항을 1ohm이하로 해야하는데, 어떻게 해야하나요? 신규item 개발해야하는데, 걱정입니다.
  • surface risist
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답변 3
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    고상운님의 답변

    >도전막시트의 표면저항을 1ohm이하로 해야하는데, 어떻게 해야하나요? >신규item 개발해야하는데, 걱정입니다. 제가 일본 특허를 번역해 보았는데 도전막을 1옴이하로 하려면 필름층위에 ito-은-ito-은-ito-은을 복층으로 박막 처리해야합니다.
    >도전막시트의 표면저항을 1ohm이하로 해야하는데, 어떻게 해야하나요? >신규item 개발해야하는데, 걱정입니다. 제가 일본 특허를 번역해 보았는데 도전막을 1옴이하로 하려면 필름층위에 ito-은-ito-은-ito-은을 복층으로 박막 처리해야합니다.
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    최관영님의 답변

    >도전막시트의 표면저항을 1ohm이하로 해야하는데, 어떻게 해야하나요? >신규item 개발해야하는데, 걱정입니다. 도전막을 1옴이하로 하려면 필름층위에 ito-은-ito-은-ito-은을 복층으로 박막 처리해야합니다 상기와 같이 했을때 광투과율이 어느정도입니까?
    >도전막시트의 표면저항을 1ohm이하로 해야하는데, 어떻게 해야하나요? >신규item 개발해야하는데, 걱정입니다. 도전막을 1옴이하로 하려면 필름층위에 ito-은-ito-은-ito-은을 복층으로 박막 처리해야합니다 상기와 같이 했을때 광투과율이 어느정도입니까?
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    고상운님의 답변

    >도전막시트의 표면저항을 1ohm이하로 해야하는데, 어떻게 해야하나요? >신규item 개발해야하는데, 걱정입니다. 대략 45~50%(가시광선 영역)입니다.
    >도전막시트의 표면저항을 1ohm이하로 해야하는데, 어떻게 해야하나요? >신규item 개발해야하는데, 걱정입니다. 대략 45~50%(가시광선 영역)입니다.
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