2006-11-16
org.kosen.entty.User@5dc2967f
오동현(dream91)
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반도체에서 패터닝에 사용되는 photoresist에 대해서 공부하고자 합니다.
현재 관련 지식이 부족한 사람입니다. 저는 반도체용 posi PR로 쓰이는 고분자의 구조적 특성을 알고 싶습니다.
관련 자료나 유용한 웹사이트 등등 어떠한 형태의 도움이건 기쁘게 받아보겠습니다.
미리 감사드립니다...
- photoresist
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
답변 5
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답변
조주웅님의 답변
2006-11-16- 0
>반도체에서 패터닝에 사용되는 photoresistor에 대해서 공부하고자 합니다. >현재 관련 지식이 부족한 사람입니다. 저는 반도체용 posi PR로 쓰이는 고분자의 구조적 특성을 알고 싶습니다. >관련 자료나 유용한 웹사이트 등등 어떠한 형태의 도움이건 기쁘게 받아보겠습니다. > >미리 감사드립니다... 참조하시기 바랍니다.. -
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최재학님의 답변
2006-11-16- 0
>반도체에서 패터닝에 사용되는 photoresistor에 대해서 공부하고자 합니다. >현재 관련 지식이 부족한 사람입니다. 저는 반도체용 posi PR로 쓰이는 고분자의 구조적 특성을 알고 싶습니다. >관련 자료나 유용한 웹사이트 등등 어떠한 형태의 도움이건 기쁘게 받아보겠습니다. > >미리 감사드립니다... 참고하십시오. 혹시 더 궁금한 것이 있으시면 메일로 연락주십시오. Photoresistor (x) ==> Photoresist (o) -
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최재학님의 답변
2006-11-16- 0
>반도체에서 패터닝에 사용되는 photoresistor에 대해서 공부하고자 합니다. >현재 관련 지식이 부족한 사람입니다. 저는 반도체용 posi PR로 쓰이는 고분자의 구조적 특성을 알고 싶습니다. >관련 자료나 유용한 웹사이트 등등 어떠한 형태의 도움이건 기쁘게 받아보겠습니다. > >미리 감사드립니다... 참고하십시오. 혹시 더 궁금한 것이 있으시면 메일로 연락주십시오. -
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최재학님의 답변
2006-11-17- 0
>반도체에서 패터닝에 사용되는 photoresist에 대해서 공부하고자 합니다. >현재 관련 지식이 부족한 사람입니다. 저는 반도체용 posi PR로 쓰이는 고분자의 구조적 특성을 알고 싶습니다. >관련 자료나 유용한 웹사이트 등등 어떠한 형태의 도움이건 기쁘게 받아보겠습니다. > >미리 감사드립니다... hanmail로 간단히 답변을 보내드렸습니다. 혹시 더 궁금한 것이 있으시면 다시 메일 주십시오. -
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조주웅님의 답변
2006-11-17- 0
>반도체에서 패터닝에 사용되는 photoresist에 대해서 공부하고자 합니다. >현재 관련 지식이 부족한 사람입니다. 저는 반도체용 posi PR로 쓰이는 고분자의 구조적 특성을 알고 싶습니다. >관련 자료나 유용한 웹사이트 등등 어떠한 형태의 도움이건 기쁘게 받아보겠습니다. > >미리 감사드립니다... pr의 layer 구조와 온도변화에 의한 pr 두께변화가 궁금합니다. 현재 다음과 같이 추론하고 있습니다. [추론 1] pr layer 구조 layer 3 : 막질 (경화성물질) layer 2 : 감광성물질 (솔벤트+기타) layer 1 : 기판 [추론 2] ashing & etching 과 pr layer 구조관계 etching : 패턴 식각과 두께는 layer 2, 3 깊이 까지... ashing : 식각 깊이 layer 3 까지.. 상기 추론을 증명하기 위해 pr의 온도만의 효과가 궁금합니다. - 온도 변화에 의한 pr 두께 data가 있나요? - 상기 data에서 positive 와 negative 두께변화가 다른가요? 메일을 몰라 이곳에서 물어봅니다. (아이디 클릭했는데, 않되네요..) 도움 부탁드립니다. 감사합니다..^^