2006-11-20
org.kosen.entty.User@1b4c8b8c
정수연(iloveprisc)
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LCD 공정 중에서 active etching 부분인, a-Si과 n+a-Si의 식각 장치의 사양을 구합니다.
5세대나 7세대 글라스에서 사용하는 장비에 관해서인데,
터보/로타리 펌프 등의 사용 용량 및 기타 장치 사양입니다.
그냥 normal한 장치 사양이 있으면 됩니다.
TEL 이나 몇 몇 국내 제작 업체 홈페이지에 갔는데,
사양은 없고 성능만 적혀 있더군요.
rough하게라도 좋으니 자료 공유 좀 부탁드립니다.
감사합니다.
- Etching
- LCD
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
김강형님의 답변
2015-07-14- 0
저는 LCD 공정과는 다른 분야에서 일합니다.
질문 내용을 보니 용량에 맞춰 세부 부품들의 성능과 용량을 원하시는 것으로 예상됩니다만 사실 이런 것은 장비 설계를 개략적으로 공개하는 것이 됩니다.
아직 이 분야는 경쟁이 치열하고 발전 중이기 때문에 상세한 사양을 구하는 것은 쉽지 않을 듯 합니다.
원하신다면 차라리 실험용 장비를 갖춘 서울대 반도체공동연구소 같은 곳에 방문하셔서 장비를 검토하시고 사양을 비교하시면 도움이 될 것 같습니다.
http://www.ddaily.co.kr/news/article.html?no=123716