2007-06-11
org.kosen.entty.User@721be891
양철규(sprtmWKd)
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저희가 HfAlO Thin Film에 대한 연구를 하고 있습니다.
저희가 여러가지 실험을 한 결과 HfAlO 가 Chemical이나 Optical 특성
면에서 다양한 결과를 나타내고 있는데...
근본적으로 1) Optical 특성이 High-k 물질일수록 투과율이 높아지거나..
2) 표면 O2 산화막 (RF Sputter)이 있을시, 강산이나, SC-1 공정에 왜
내화학성이 우수해 지는지... 에 대한 지식이 없어서..관련 자료가 있으면
부탁드립니다.
3) 또한 저희가 성분 분석결과 Al의 조성이 10% 이하로 되어 있는데..
실제 HfO 와 Al2O3의 Deposition Rate 가 어떻게 다른 것인지.
(여러가지 이유가 있지만..장비제외...화학적/물리적으로)
4) 혹은 HfO 와 HfN의 물성에 대한 비교 자료가 있으면..부탁드립니다.
감사합니다.
- HfAlO
- HfO
- HfN
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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