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지식나눔

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Si wafer로 FT-IR 찍는 법 좀 알려주세요?

2007-06-26 org.kosen.entty.User@60f0784 김주환(thanksok)
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논문을 보니까 si wafer이용하여 FT-IR을 찍어서 데이타를 올렸던데요 si wafer이용하여 어떻게 찍은걸까요? 일반 KBr 윈도우 쓴거 처럼 묻힌다음 찍은건가요? si wafer 에 스피코팅하여 찍으면 될까요? 그리고 이때 si wafer는 SiO2가 있는거로 하나요 없는거로 하나요? si wafer이용하여 FT-IR 찍는 법 아시는 분들 좀 알려주세요.
  • wafer
  • FT-IR
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답변 5
  • 답변

    한승택님의 답변

    2007-06-27
    • 0
    질문하신 의도를 정확히 알아야 미약하나마 도움을 드릴 수 있을 듯합니다. 혹시 Si wafer라고 하면 ATR 방식의 측정에 따른 악세사리를 가르키시는 건지 아니면 반도체 공정의 si wafer표면의 이물질 분석을 원하시는 건지 모르겠군요
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    질문하신 의도를 정확히 알아야 미약하나마 도움을 드릴 수 있을 듯합니다. 혹시 Si wafer라고 하면 ATR 방식의 측정에 따른 악세사리를 가르키시는 건지 아니면 반도체 공정의 si wafer표면의 이물질 분석을 원하시는 건지 모르겠군요
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  • 답변

    김주환님의 답변

    2007-06-27
    • 0
    >논문을 보니까 si wafer이용하여 FT-IR을 찍어서 데이타를 올렸던데요 >si wafer이용하여 어떻게 찍은걸까요? >일반 KBr 윈도우 쓴거 처럼 묻힌다음 찍은건가요? >si wafer 에 스피코팅하여 찍으면 될까요? >그리고 이때 si wafer는 SiO2가 있는거로 하나요 없는거로 하나요? > >si wafer이용하여 FT-IR 찍는 법 아시는 분들 좀 알려주세요. >>>>> 공장에서 제조된 si wafer(일반실험실서 TFT제작에 사용하는 wafer를 말함)에 유기물질을 스핀코팅하여 유기물질을 FT-IR 분석하려고 하는 것입니다. 즉 KBr 윈도우 대신 si wafer 사용이 가능한지와 가능하다면 방법을 알려달라는 질문입니다.
    답변수정
    >논문을 보니까 si wafer이용하여 FT-IR을 찍어서 데이타를 올렸던데요 >si wafer이용하여 어떻게 찍은걸까요? >일반 KBr 윈도우 쓴거 처럼 묻힌다음 찍은건가요? >si wafer 에 스피코팅하여 찍으면 될까요? >그리고 이때 si wafer는 SiO2가 있는거로 하나요 없는거로 하나요? > >si wafer이용하여 FT-IR 찍는 법 아시는 분들 좀 알려주세요. >>>>> 공장에서 제조된 si wafer(일반실험실서 TFT제작에 사용하는 wafer를 말함)에 유기물질을 스핀코팅하여 유기물질을 FT-IR 분석하려고 하는 것입니다. 즉 KBr 윈도우 대신 si wafer 사용이 가능한지와 가능하다면 방법을 알려달라는 질문입니다.
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  • 답변

    민병훈님의 답변

    2007-06-28
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    >논문을 보니까 si wafer이용하여 FT-IR을 찍어서 데이타를 올렸던데요 >si wafer이용하여 어떻게 찍은걸까요? >일반 KBr 윈도우 쓴거 처럼 묻힌다음 찍은건가요? >si wafer 에 스피코팅하여 찍으면 될까요? >그리고 이때 si wafer는 SiO2가 있는거로 하나요 없는거로 하나요? > >si wafer이용하여 FT-IR 찍는 법 아시는 분들 좀 알려주세요. 안녕하십니까 도움이 될까하여 올립니다. 제가 한 것은 아닙니다만 저희 실험실의 동료분이 사용하시는 방법입니다. 특별한 것은 없구여 Si wafer에 spin coating 한 후에 찍으시면 된답니다. IR이 wafer를 통과할까 의심했지만 통과한답니다. wafer의 SiO2와는 관계가 없는 듯합니다. 한번 try해 보시기 바랍니다.
    답변수정
    >논문을 보니까 si wafer이용하여 FT-IR을 찍어서 데이타를 올렸던데요 >si wafer이용하여 어떻게 찍은걸까요? >일반 KBr 윈도우 쓴거 처럼 묻힌다음 찍은건가요? >si wafer 에 스피코팅하여 찍으면 될까요? >그리고 이때 si wafer는 SiO2가 있는거로 하나요 없는거로 하나요? > >si wafer이용하여 FT-IR 찍는 법 아시는 분들 좀 알려주세요. 안녕하십니까 도움이 될까하여 올립니다. 제가 한 것은 아닙니다만 저희 실험실의 동료분이 사용하시는 방법입니다. 특별한 것은 없구여 Si wafer에 spin coating 한 후에 찍으시면 된답니다. IR이 wafer를 통과할까 의심했지만 통과한답니다. wafer의 SiO2와는 관계가 없는 듯합니다. 한번 try해 보시기 바랍니다.
    등록된 댓글이 없습니다.
  • 답변

    김정렬님의 답변

    2007-06-30
    • 0
    실리콘은 IR 을 거의 100 % 투과합니다. 순수한 SiO2 thermal grown 것은 100% 통과합니다. 이것을 이용하여 요즘 MEMS 의 실리콘과 실리콘 양극접합, 실리콘 유리 기판의 양극접합에서 중간층의 보이드를 측정할 때에 여기에도 100 % 사용합니다. 중간에 보이드가 있으면 반점으로 나타납니다. 이것을 IR 카메라로 보면 뚜렸하게 보입니다. 여기까지 현장에서 사용하는 방법을 말씀드렸습니다. KBR 쓰는 이유는 아시는 바와 같이 IR 파장에서 아주 일정한 진동을 하기 때문입니다. 이것을 Background 로 측정하고 제거하면 순수한 진동 파장대를 확인할 수 있기 때문입니다. 즉, 측정하고자 하는 물질의 파장대를 알고 있어야 한다는 것입니다. 확인차원에서 측정하는 것이 IR 이라는 것을 명심하시고요. 같이 공부하자는 뜻에서 적었습니다. 감사합니다. >논문을 보니까 si wafer이용하여 FT-IR을 찍어서 데이타를 올렸던데요 >si wafer이용하여 어떻게 찍은걸까요? >일반 KBr 윈도우 쓴거 처럼 묻힌다음 찍은건가요? >si wafer 에 스피코팅하여 찍으면 될까요? >그리고 이때 si wafer는 SiO2가 있는거로 하나요 없는거로 하나요? > >si wafer이용하여 FT-IR 찍는 법 아시는 분들 좀 알려주세요.
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    실리콘은 IR 을 거의 100 % 투과합니다. 순수한 SiO2 thermal grown 것은 100% 통과합니다. 이것을 이용하여 요즘 MEMS 의 실리콘과 실리콘 양극접합, 실리콘 유리 기판의 양극접합에서 중간층의 보이드를 측정할 때에 여기에도 100 % 사용합니다. 중간에 보이드가 있으면 반점으로 나타납니다. 이것을 IR 카메라로 보면 뚜렸하게 보입니다. 여기까지 현장에서 사용하는 방법을 말씀드렸습니다. KBR 쓰는 이유는 아시는 바와 같이 IR 파장에서 아주 일정한 진동을 하기 때문입니다. 이것을 Background 로 측정하고 제거하면 순수한 진동 파장대를 확인할 수 있기 때문입니다. 즉, 측정하고자 하는 물질의 파장대를 알고 있어야 한다는 것입니다. 확인차원에서 측정하는 것이 IR 이라는 것을 명심하시고요. 같이 공부하자는 뜻에서 적었습니다. 감사합니다. >논문을 보니까 si wafer이용하여 FT-IR을 찍어서 데이타를 올렸던데요 >si wafer이용하여 어떻게 찍은걸까요? >일반 KBr 윈도우 쓴거 처럼 묻힌다음 찍은건가요? >si wafer 에 스피코팅하여 찍으면 될까요? >그리고 이때 si wafer는 SiO2가 있는거로 하나요 없는거로 하나요? > >si wafer이용하여 FT-IR 찍는 법 아시는 분들 좀 알려주세요.
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    허성우님의 답변

    2010-01-07
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    Si wafer가 visible 영역에서는 빛이 통과하지 못 하지만 IR 영역에서는 어느 정도 통과를 합니다. 그래서 KBr 윈도우 처럼 사용하시면 됩니다. 뭍힌다음 찍으셔도 되고 스핀코팅을 하셔도 됩니다. 단 reference을 같은 Si wafer를 사용하셔야 합니다. >논문을 보니까 si wafer이용하여 FT-IR을 찍어서 데이타를 올렸던데요>si wafer이용하여 어떻게 찍은걸까요?>일반 KBr 윈도우 쓴거 처럼 묻힌다음 찍은건가요?>si wafer 에 스피코팅하여 찍으면 될까요?>그리고 이때 si wafer는 SiO2가 있는거로 하나요 없는거로 하나요?>>si wafer이용하여 FT-IR 찍는 법 아시는 분들 좀 알려주세요.
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    Si wafer가 visible 영역에서는 빛이 통과하지 못 하지만 IR 영역에서는 어느 정도 통과를 합니다. 그래서 KBr 윈도우 처럼 사용하시면 됩니다. 뭍힌다음 찍으셔도 되고 스핀코팅을 하셔도 됩니다. 단 reference을 같은 Si wafer를 사용하셔야 합니다. >논문을 보니까 si wafer이용하여 FT-IR을 찍어서 데이타를 올렸던데요>si wafer이용하여 어떻게 찍은걸까요?>일반 KBr 윈도우 쓴거 처럼 묻힌다음 찍은건가요?>si wafer 에 스피코팅하여 찍으면 될까요?>그리고 이때 si wafer는 SiO2가 있는거로 하나요 없는거로 하나요?>>si wafer이용하여 FT-IR 찍는 법 아시는 분들 좀 알려주세요.
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