2007-08-07
org.kosen.entty.User@12b7d255
이동엽(ccaryman)
- 1
보통 반도체나 TCO 박막에 있어
표면처리를 위해 수소 플라즈마를 한다고 되어있는데...
이것에 대해 알고 싶습니다.
그리고 ITO의 경우 수소 플라즈마에 약하고
ZnO의 경우 좋다고 하는데...
In-O 결합에너지가 Zn-O 결합 에너지 보다
높은 것으로 아는데 왜 그런지 알고 싶습니다.
- plasma
지식의 출발은 질문, 모든 지식의 완성은 답변!
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
답변 1
-
답변
이익환님의 답변
2007-08-10- 0
>보통 반도체나 TCO 박막에 있어 >표면처리를 위해 수소 플라즈마를 한다고 되어있는데... >이것에 대해 알고 싶습니다. >그리고 ITO의 경우 수소 플라즈마에 약하고 >ZnO의 경우 좋다고 하는데... >In-O 결합에너지가 Zn-O 결합 에너지 보다 >높은 것으로 아는데 왜 그런지 알고 싶습니다. 박막 재료의 표면처리 및 식각 실험 2. 실험목적 ➜ 여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조 ... ⑤ 마스크 패턴의 제거 (O2 plasma ashing) - 플라즈마 애슁장치를 이용하여 산소플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 ... 사이트 참고하세요.