2007-08-28
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이용민(mrdragon)
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AES (Auger electron spectroscopy) depth를 통해 물질 표면에 새로 형성된 피막의 두께를 측정하고자 합니다. 예를 들어 탄소 박막 위에 새로운 산화물 피막층이 형성됐다고 하면, 탄소 함량이 얼마에 도달하였을 때 피막이 완전히 제거됐다고 할 수 있을까요?
제 주변 오퍼레이터 선생님의 경우는 84%, 논문을 보면 95% 등의 기준이 다양하던데 어떤 것이 정확한 기준이며, 그 기준이 나오게 된 근거가 무엇인지 궁금합니다.
문헌을 아무리 뒤져봐도 적절한 설명이 없네요.
좋은 답변에 미리 감사 드립니다.
- AES
- depth
- thickness
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 2
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답변
김도형님의 답변
2007-08-28- 0
여러 시료를 분석해 보아도 딱히 숫자로 값을 제시하지는 못할 것입니다. 산화물 피막층이라면 표면부터 산소 함량이 감소할텐데 어느정도까지 감소하였을 때 새로 생성된 표면의 효과가 제거가 되었냐는 판단도 마찬가지이고요. 분석의 목적이 중요할 것 같습니다. 목적이 표면 산화(오염)층의 정보를 제거하고 분석을 하겠다면야 84% 이든 95%이든 크게 중요하지 않을 것 같고, 그것이 아니라 새로 생성된 피막층의 두께를 재는 것이라면 조금은 힘들지 않을까 싶습니다. 대부분의 경우 표면 산화층의 두께는 그리 크지 않을터이고 AES depth profile이라는 것이 etch 를 통하여 이루어진다는 것을 감안하면 산화층의 etch rate의 정확도 역시 결과에 영향을 미칠테니까요. 표면 산화층을 측정하시고자 한다면 차라리 비파괴 검사법인 ellipsometry 를 생각해 보시는 것도 괜찮을 것 같습니다. 다만 이 경우 하부막이 어떤 것이냐에 따라 가능 여부가 결정이 될 것 같습니다. 답변이 도움이 되지는 않으시겠으나 딱히 다른 좋은 방안도 없을 것 같아 말씀드려 봅니다. > AES (Auger electron spectroscopy) depth를 통해 물질 표면에 새로 형성된 피막의 두께를 측정하고자 합니다. 예를 들어 탄소 박막 위에 새로운 산화물 피막층이 형성됐다고 하면, 탄소 함량이 얼마에 도달하였을 때 피막이 완전히 제거됐다고 할 수 있을까요? > > 제 주변 오퍼레이터 선생님의 경우는 84%, 논문을 보면 95% 등의 기준이 다양하던데 어떤 것이 정확한 기준이며, 그 기준이 나오게 된 근거가 무엇인지 궁금합니다. > > 문헌을 아무리 뒤져봐도 적절한 설명이 없네요. > > 좋은 답변에 미리 감사 드립니다. -
답변
손삼익님의 답변
2007-09-08- 0
AES 의 경우 일반적인 산화막에서는 두께 평가용으로 적합하지 않다고 생각됩니다. 특히 depth profiling 하면서 두께를 재기 위해서는 sputtering rate가 정확해야 하는데 이게 장비 마다, 실험 조건마다 일정하지 않으니 결과의 신뢰성에도 문제가 많다고 생각됩니다. 에상하는 두께에 다라 다르겠지만, 두께를 재려면 1. TEM으로 단면 분석 2. Si의 경우 Sio2 산화막 두께 평가는 XPS 3. ellipsometer 4. XRR 5. AFM이나 profiler (stylus) 혹은 표면 조도계 등이 생각나내요. 물질, 예상 두께, 시편 형태에 대한 정보가 있으면 적합한 방법을 추천할 수 있습니다. > AES (Auger electron spectroscopy) depth를 통해 물질 표면에 새로 형성된 피막의 두께를 측정하고자 합니다. 예를 들어 탄소 박막 위에 새로운 산화물 피막층이 형성됐다고 하면, 탄소 함량이 얼마에 도달하였을 때 피막이 완전히 제거됐다고 할 수 있을까요? > > 제 주변 오퍼레이터 선생님의 경우는 84%, 논문을 보면 95% 등의 기준이 다양하던데 어떤 것이 정확한 기준이며, 그 기준이 나오게 된 근거가 무엇인지 궁금합니다. > > 문헌을 아무리 뒤져봐도 적절한 설명이 없네요. > > 좋은 답변에 미리 감사 드립니다.