2007-11-02
org.kosen.entty.User@403bcc82
권혁순(max7865)
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교과서와 같은 교재를 보면 Si band structure의 forbidden energy gap을 보면 acceptor like site 혹은
donor like site라고 불리우는energy level이 존재하더라구요.. 이런 것들은 모두 defect들로서 Si 내 구조적 결함으로 인해 발생된거 라고 생각되는데 어떤 결함들이 앞서 말씀드렸던 site를 만드는 것인가요??? 또한 구조적 결함이 어떠한 차이가 있는 것인가요??
단지 교과서에는 fermi level을 기준으로 구분만 해놨더라구요....
답변부탁드립니다..
- trap site
- acceptor like trap site
- donor like trap site
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
안길홍님의 답변
2007-11-02- 0
반도체를 만들다보면 부정합결합이 이루어 지는 경우가 많습니다. 특히 amorphous type에는 이러한 부정합결합(dangling bond)을 이루게 됩니다.즉,원자결합의손(hand)이 끊어져서 에너지의 흐름이 불연속성을 가진다는 것입니다.이는 a-Si 내부에서 뿐만이 아니라 표면에서도 일어납니다. 이로인하여 마치 donor 같이,acceptor같이 작용한다는 것입니다. 이에 관하여 자료를 file로 첨부하였으며,이러한 결함을 check하는 기법은 ESR(또는 EPR) technics.를 적용합니다.