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PIN형 Si Solar cell

PIN형 Si Solar cell에 대해서 공부하려고 찾아보니.. CVD로 한것이 많이 있는데요.. CVD를 사용하는 이유가 뭔가요??
  • Solar cell
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답변 2
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    안길홍님의 답변

    태양전지를 처음 만들었을 때는 SiO2에서 용융하여 Si를 만들고 이에서 단결정Si를 만들어 내었기 때문에 두께도 약150um정도 되었고,제조cost 또한 높았습니다. 이러한 문제점을 극복하기 위하여 Si을 수소와 반응시켜 Si:H4라는 silane을 제조하고 이를 저진공중에서 고주파를 인가한 반응로 내에 넣어 200~300C로 가열된 기판위에 silane개스를 불어넣어서 기판에 일종의 화학적 융착을 시키기 때문에 이를 CVD라고 합니다. 이의 장점은 연속공정이 용이하고, 도막의 두께를 1um정도로 제어가능하기 때문입 니다.이러한 공정으로 인하여 a-Si 태양전지의 제작에는 CVD가 적용되는 이유입니다.
    태양전지를 처음 만들었을 때는 SiO2에서 용융하여 Si를 만들고 이에서 단결정Si를 만들어 내었기 때문에 두께도 약150um정도 되었고,제조cost 또한 높았습니다. 이러한 문제점을 극복하기 위하여 Si을 수소와 반응시켜 Si:H4라는 silane을 제조하고 이를 저진공중에서 고주파를 인가한 반응로 내에 넣어 200~300C로 가열된 기판위에 silane개스를 불어넣어서 기판에 일종의 화학적 융착을 시키기 때문에 이를 CVD라고 합니다. 이의 장점은 연속공정이 용이하고, 도막의 두께를 1um정도로 제어가능하기 때문입 니다.이러한 공정으로 인하여 a-Si 태양전지의 제작에는 CVD가 적용되는 이유입니다.
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    김선영님의 답변

    박막 실리콘 태양전지의 공정에서 CVD 또는 PVD 공정 방식을 사용하는데, 그 이유는 먼저 답변해 주신 분의 답변과 같이 막의 두께 조절이 가능하고 연속적이 공정이 가능하다는 점이 있습니다. 그리고 박막 태양전지의 경우, 공정시에 상압상태에서 공정을 진행하게 되면, 실리콘 막이 성막되는 도중에 공기중의 먼지나 particles이 쉽게 침투할 수 있어, 향후 태양전지의 성막이후에 defect 요소로 작용하게 됩니다. 그렇기 때문에 고가이지만 CVD나 PVD 장비를 사용합니다. >PIN형 Si Solar cell에 대해서 공부하려고 찾아보니..>CVD로 한것이 많이 있는데요..>CVD를 사용하는 이유가 뭔가요??
    박막 실리콘 태양전지의 공정에서 CVD 또는 PVD 공정 방식을 사용하는데, 그 이유는 먼저 답변해 주신 분의 답변과 같이 막의 두께 조절이 가능하고 연속적이 공정이 가능하다는 점이 있습니다. 그리고 박막 태양전지의 경우, 공정시에 상압상태에서 공정을 진행하게 되면, 실리콘 막이 성막되는 도중에 공기중의 먼지나 particles이 쉽게 침투할 수 있어, 향후 태양전지의 성막이후에 defect 요소로 작용하게 됩니다. 그렇기 때문에 고가이지만 CVD나 PVD 장비를 사용합니다. >PIN형 Si Solar cell에 대해서 공부하려고 찾아보니..>CVD로 한것이 많이 있는데요..>CVD를 사용하는 이유가 뭔가요??
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