2007-11-15
org.kosen.entty.User@9544884
김양수(dlinka)
- 1
유리기판에 고분자막을 인쇄할때 그성능을 향상시키기 위해 전처리 공정에서 일반적으로
EUV(Eximer UV)를 통해서 표면개질을 합니다.
이러한 표면개질 효과의 지속시간과 표면개질후 Bake공정을 거친다면 그효과가 유지되는지를
알고 싶읍니다. 많은 조언 부탁드립니다.
- EUV
지식의 출발은 질문, 모든 지식의 완성은 답변!
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
답변 1
-
답변
김기범님의 답변
2007-12-12- 0
>유리기판에 고분자막을 인쇄할때 그성능을 향상시키기 위해 전처리 공정에서 일반적으로 >EUV(Eximer UV)를 통해서 표면개질을 합니다. >이러한 표면개질 효과의 지속시간과 표면개질후 Bake공정을 거친다면 그효과가 유지되는지를 >알고 싶읍니다. 많은 조언 부탁드립니다. > Glass 표면에 EUV처리를 해서 표면의 adhesion을 개선시킨다는 것은 결국 기판 표면의 residual contaminant를 제거하고 이로 인해 surface wetting을 좋게하는 것이겠죠. 그런데 이런 시료를 대기중에 방치해두면 다시 대기중의 수분, 산소, CO2, 기타가스 등이 기판 표면에 흡착될 것입니다. 질문하신 의도는 알 것 같습니다만 청정기판을 대기중에 방치했을때 얼마만에 다시 오염되는 가하는 문제는 누구라도 알수 없겠죠. 특히, 그 환경 (온도, 습도, 청정도 -클린룸인가 아닌가-)에 따라 상당히 다르리라 생각됩니다. 어떤 강연회에서 청정한 실리콘 기판을 진공챔버에서 꺼냈다가 다른장치로 이송하는 경우 5분이내에는 심각한 오염이 발생하지 않았다는 이야기를 들은기억이 있습니다만, 사람마다 실험 환경이 다르기때문에 참고느 안될 듯 합니다. 좀 더 specific한 조건을 알려주시지 않으면....