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지식나눔

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gate oxide에서 SiO2 두께 줄이기

2007-12-11 org.kosen.entty.User@63a007c4 이명수(myongsoo2)
  • 2
gate oxide에서 high-k를 쓰면서 SiO2 두께 줄이는 연구가 진행되고 있는데요 이와 관련된 논문 아시는분은 좀 부탁 드리겠습니다.
  • gate oxide
  • high-k
  • SiO2
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답변 2
  • 답변

    한희님의 답변

    2007-12-11
    • 0
    >gate oxide에서 high-k를 쓰면서 SiO2 두께 줄이는 연구가 진행되고 있는데요 > >이와 관련된 논문 아시는분은 > >좀 부탁 드리겠습니다. 여러가지 High-k물질이 있지만 실제 실용화가 가능한 물질은 HfO2이고 인터넷 서치하면 엄청나게 자료검출되요
    답변수정
    >gate oxide에서 high-k를 쓰면서 SiO2 두께 줄이는 연구가 진행되고 있는데요 > >이와 관련된 논문 아시는분은 > >좀 부탁 드리겠습니다. 여러가지 High-k물질이 있지만 실제 실용화가 가능한 물질은 HfO2이고 인터넷 서치하면 엄청나게 자료검출되요
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  • 답변

    이세종님의 답변

    2007-12-12
    • 0
    제가 학교에 있을때 전공한 부분입니다. 분야가 방대하기 때문에 구체적으로 어떤 부분이 궁금한지 알려주시면 자세히 설명해 드리겠습니다. 예를 들어 Dielectric materials, EOT scaling, Lg vs Eeff, mobility, Vbd, GM, swing, charge trapping, interfacial layer, XRD, Dit, NBTI & PBTI, Fermi pinning and metal gate adoption 등등이 주요 관심사 입니다. >gate oxide에서 high-k를 쓰면서 SiO2 두께 줄이는 연구가 진행되고 있는데요 > >이와 관련된 논문 아시는분은 > >좀 부탁 드리겠습니다.
    답변수정
    제가 학교에 있을때 전공한 부분입니다. 분야가 방대하기 때문에 구체적으로 어떤 부분이 궁금한지 알려주시면 자세히 설명해 드리겠습니다. 예를 들어 Dielectric materials, EOT scaling, Lg vs Eeff, mobility, Vbd, GM, swing, charge trapping, interfacial layer, XRD, Dit, NBTI & PBTI, Fermi pinning and metal gate adoption 등등이 주요 관심사 입니다. >gate oxide에서 high-k를 쓰면서 SiO2 두께 줄이는 연구가 진행되고 있는데요 > >이와 관련된 논문 아시는분은 > >좀 부탁 드리겠습니다.
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