2007-12-22
org.kosen.entty.User@1a0939a6
임유승(rim2000)
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일반적인 스퍼터링 공정을 이용하여 ITO,IZO를 제작하고 있습니다.
특징적인것은 제작된 전극이 타 논문에서 발표된것과 유사항 비저항 값을 가져주는데에
반해서 타논문에서의 캐리어농도는 1~5x10^20 [cm-3], 이동도는 30~50 [cm2/vs] 를
나타내는데 제 실험결과에서는 1~2x10^21 [cm-3], 이동도는 7~12 [cm2/vs]를 나타냅니다.
비저항은 유지하되 캐리어농도를 줄이고 이동도를 증가시킬 수 있는 요소를 알고 싶습니다.
후열처리 조건은 배재하고 스퍼터 조건에서 할수있는 방법을 알고싶습니다.
아님 관련 논문이나 도움될만한 자료가 있음 부탁드릴께요!
- TCO
- ITO
- SPUTTER
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 2
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답변
김기범님의 답변
2007-12-22- 0
>일반적인 스퍼터링 공정을 이용하여 ITO,IZO를 제작하고 있습니다. > >특징적인것은 제작된 전극이 타 논문에서 발표된것과 유사항 비저항 값을 가져주는데에 > >반해서 타논문에서의 캐리어농도는 1~5x10^20 [cm-3], 이동도는 30~50 [cm2/vs] 를 > >나타내는데 제 실험결과에서는 1~2x10^21 [cm-3], 이동도는 7~12 [cm2/vs]를 나타냅니다. > >비저항은 유지하되 캐리어농도를 줄이고 이동도를 증가시킬 수 있는 요소를 알고 싶습니다. > >후열처리 조건은 배재하고 스퍼터 조건에서 할수있는 방법을 알고싶습니다. > >아님 관련 논문이나 도움될만한 자료가 있음 부탁드릴께요! > 논문은 지금 당장 올려드릴 만한 것이 없읍니다만, Y. Shigesato 등의 논문을 검색해보시면 상기한 내용에 대한 연구결과가 많이 있으리라 생각됩니다. 짧습니다만, 제 경험으로 부터 말씀을 드리자면 다음과 같습니다. 후열처리 없이 목적하신 바를 달성하시기 위해서는 산소분압을 현 조건보다 조금씩 높이는 방향으로 조건으로 ？어보시면 어떨까요? 잘 아시는 바이겠습니다만 상기한 방법으로 TCO의 주된 캐리어인 oxygen vacancy가 감소하여 목적하신 방향의 결과가 얻어지지 않을 까 생각됩니다. -
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안길홍님의 답변
2007-12-22- 0
rim2000님 께서 아무리 조건을 일치하여 한다고 하여도 논문에 나온 수치와 일치시킨다는 것은 매우 어렵다는 것은 잘 아실것입니다. Kevin510님 께서 좋은 답변을 하여주셨습니다. rim2000님 께서 논문의 조건과 거의 일치하여서(물질의 구성비)실험하실 때 산소의 분압에 대하여 신경쓰야 합니다. 첨부자료의 그라프를 보시기 바랍니다.