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sputter관련해서....

안녕하세요~ 제가 sputter로 실험을 하다 문의점이 생겨 글을 씁니다. AZO 새 target으로 교체 후 대략 10시간 넘게 프리스퍼터를 했는데.... 그 이후로 target 교체 전 실험조건... 예를 들어 Ar 30sccm RF power 200으로 AZO를 증착하면 저항이 대략 150옴 정도 나왔었는데... 엄청나게 긴 시간 프리스퍼터링 후 위와 같은 조건으로 실험시 저항값이 1.2킬로옴이 나오는데.... 어떻게 된걸까요?? 많은 프리스퍼터링으로 인해 챔버내에 AZO가 많이 달라붙어서 그런건지.... 어떻게 해야할지 조언부탁드립니다.
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답변 1
  • 답변

    윤선님의 답변

    프로세스 진공도가 궁금하네요 예전과 현재 진공도를 비교해 보시고 같다면... Target purity 문제가 아닐까요?? 천천히 하나하나 짚어보세요.
    프로세스 진공도가 궁금하네요 예전과 현재 진공도를 비교해 보시고 같다면... Target purity 문제가 아닐까요?? 천천히 하나하나 짚어보세요.
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