2008-01-26
org.kosen.entty.User@7b3ae447
이종석(ljs9757)
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연구실에서 공부중인 학생입니다.
교수님께서 세미나로 lithography에 대해 주셨는데
PR의 두께에 따라 Exposure time, energy가 달라진다고 하는데
PR종류를 제외하고,
대표적으로 PR의 두께에 따라 Exposure time, energy를 나타내는
식이나, 계산법이 있는지 궁금합니다.
답변 부탁드립니다~ㅜㅜ
- photoresist
- exposure time
- exposure energy
지식의 출발은 질문, 모든 지식의 완성은 답변!
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
김정렬님의 답변
2008-01-26- 0
안녕하세요. 연구하시면서 많은 것을 경험하실 수 있을 것으로 보입니다. 실험실에서는 특히 두께에 대한 노광 시간을 다루지는 않았습니다. 제 경험으로도 그렇습니다. 하지만, 반도체 양산 공정에서는 조금 달리 생각하셔야 합니다. 먼저, 실험실에서는 일반 PR AZ 계열에서는 특별히 다루지는 않습니다. 하지만, 노광시간은 사용 설명서에서 나와 있는 것으로 표준으로 잡고, 사용하시는 PR 의 특성을 파악하는 선행 실험을 하여야 합니다. 꼭하셔야 합니다. 이것이 연구하시는데 많은 도움이 될 것임을 확인하여 드립니다. 즉, 두께에 대한 것, 노광 시간에 대한 것이 여러번 실험으로 참조할 사항들을 정리하여 두셔야 합니다. 두께는 주로 희석하여 사용하실 것인지, 그대로 사용하실 것인지 모두 정리하여 주시면 좋겠습니다. 속도에 대한 희석(무희석)의 두께의 데이타입니다. 노광량은 PR 의 사용 설명서와 사용하고 있는 노광기의 광원에 대한 것입니다. PR 이 광량 즉 특정 에너지 이상에서 soluable/insoluable 이 되는데, 이 특정 에너지의 사양이 PR 사용설명서에 나와있습니다. 예로, 350nm 200mJ 이상 이라면, 노광기의 사양을 보세요. 그럼, 10mj/cm2 단위가 나올 것이고, 이 에너지는 모든 파장의 합이기 때문에(따로 각 파장대의 에너지를 구분하여 명시한 노광기도 있습니다) 각 파장대의 % 를 보고 시간을 정하여샤 합니다. 단위를 조심하시고, W 는 J x sec 입니다. 반도체 양산라인에서는 스텝퍼라는 장비가 있는데 이것은 PR 코팅을 하고 난 후에 이 PR 의 두께를 측정하는 장비가 TRACK 장비에 붙어있어서, 이 두께를 노광기에 전달하여 노광기에서 Depth of focus 를 정하고 노광시간을 자동적으로 정하여 줍니다. 이것도 PR 에 대한 선행실험에서 얻어지는 값으로 정하여 줍니다. 꼭 명심하세요. PR 에 대한 기초 선행실험으로 꼭 가지고 계실 것을 바랍니다. 이상입니다. 연구에 도움이 되었으면 합니다. >연구실에서 공부중인 학생입니다. > >교수님께서 세미나로 lithography에 대해 주셨는데 > >PR의 두께에 따라 Exposure time, energy가 달라진다고 하는데 > >PR종류를 제외하고, > >대표적으로 PR의 두께에 따라 Exposure time, energy를 나타내는 > >식이나, 계산법이 있는지 궁금합니다. > >답변 부탁드립니다~ㅜㅜ > >