2008-02-20
org.kosen.entty.User@4d38cf12
이명윤(hyde27)
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pecvd 장비를 처음 접하는 아무것도 모르는 학생이 질문 드립니다
PECVD 장비를 사용하여 SiH4를 이용하여 a-si 를 올리는 과정에서
플라즈마 형성후 온도:200도 총 15분중 몇분도 지나지 않아
오렌지 빛깔의 수많은 파티클들이 생성되었으며
작은 웨이퍼조각은 깨져있었습니다
그후 flow부분의 구조적 재조정과 siH4의 양 조절을 하다보니 사라지긴 했지만
왜 그런 파티클이 형성되었는지를 모르겠습니다
아시는 분 답변 부탁드립니다~
- pecvd
- particle
- sih4
지식의 출발은 질문, 모든 지식의 완성은 답변!
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
답변 1
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답변
조은철님의 답변
2008-03-01- 0
비정질 실리콘은 TFT나 태양전지에 많이 사용되고 연구되었습니다. 특히, PECVD에서 증착조건에 따른 비정질 실리콘 물성의 특성과 구조변화에 대해서는 태양전지쪽에서 많이 연구되었습니다. “Xunming Deng and Eric A. Schiff“가 “Handbook of Photovoltaic Engineering“이란 책에 한 chapter로 “Amorphous Silicon Based Solar Cells“를 투고하였습니다. 증착조건에 따른 실리콘 박막의 변화에 대하여 체계적으로 설명하였는데, google에서 “Amorphous Silicon Based Solar Cells“ AND “Deng“으로 search하거나, Deng교수의 홈페이지에서 관련 chapter를 download할 수 있습니다. > pecvd 장비를 처음 접하는 아무것도 모르는 학생이 질문 드립니다 > > PECVD 장비를 사용하여 SiH4를 이용하여 a-si 를 올리는 과정에서 > > 플라즈마 형성후 온도:200도 총 15분중 몇분도 지나지 않아 > > 오렌지 빛깔의 수많은 파티클들이 생성되었으며 > > 작은 웨이퍼조각은 깨져있었습니다 > > 그후 flow부분의 구조적 재조정과 siH4의 양 조절을 하다보니 사라지긴 했지만 > > 왜 그런 파티클이 형성되었는지를 모르겠습니다 > > 아시는 분 답변 부탁드립니다~