2008-03-20
org.kosen.entty.User@58e2cac1
이근우(kkeun8722)
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Subject: 전자재료, 반도체 (전자/전기/통신)
영문 keyword : plasma radical
File :
제가 아는것이 없어 이렇게 글을 올립니다.
제가 플라즈마에 대해서 공부하고 있는 학생입니다.
다름이 아니라.. 책과 인터넷을 아무리 뒤져봐도 나오지 않아서요..
상압 플라즈마(또는 진공 플라즈마에서 상압 플라즈마면 더 좋겠네요)에서
라디칼이 생성되는데.. 라디칼의 생성 공식이 궁금합니다.
예를 들면, 면적 관련, 가스 관련, 진공, 온도, 플라즈마 방전 시간 관련해서요..
고수님들의 많은 답변 부탁드립니다.
[ah5506님 답변 정말 감사드립니다.]
하나 하나 주옥같은 멘트를 달아 주셔서 정말 감사합니다.
그리고 실험에 관한 항목을 말씀 드렸어야 했는데.. 죄송합니다.
O/C(Overcoating) Glass 플라즈마 처리(세정)을 하여 접촉각을 측정하려고 합니다.
현재 가스는 CDA(O2) 와 질소(N2)를 사용하며, O2와 N2를 사용하기 때문에 고전압, 저주파수를 인가하여 사용하고 있습니다.(상압과 약진공 모두)
실험을 해보았는데, 결과가 좋지 않아 조건을 바꾸려고 합니다.
그렇기 때문에 라디칼 농도를 계산해서 온도, 전극면적, 가스량, 가스온도, 등의 조건을 바꾸어서 실험을 하려 합니다.
그렇게 때문에 이렇게 문의를 드리게 되었습니다.
고수님들의 많은 답변 부탁드립니다.
- radical
- plasma
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 2
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답변
안길홍님의 답변
2008-04-05- 0
현재 glass위에 coating된 면을 cleaning하고자 하면 NF3 gas를 추천할 수 있습니다. NF3-------> N2 + F 13.56MHz (지금 사용하고 있는 조건과 같을 것입니다) coating손상없이 cleaning이 잘 되는 것으로 나올 겁니다. -
답변
유승열님의 답변
2008-08-07- 0
glass 위에 올려진 물질이 무엇인지 알고 싶네요 >Subject: 전자재료, 반도체 (전자/전기/통신) > >영문 keyword : plasma radical > >File : > >제가 아는것이 없어 이렇게 글을 올립니다. > >제가 플라즈마에 대해서 공부하고 있는 학생입니다. > >다름이 아니라.. 책과 인터넷을 아무리 뒤져봐도 나오지 않아서요.. > >상압 플라즈마(또는 진공 플라즈마에서 상압 플라즈마면 더 좋겠네요)에서 > >라디칼이 생성되는데.. 라디칼의 생성 공식이 궁금합니다. > >예를 들면, 면적 관련, 가스 관련, 진공, 온도, 플라즈마 방전 시간 관련해서요.. > >고수님들의 많은 답변 부탁드립니다. > > > >[ah5506님 답변 정말 감사드립니다.] > >하나 하나 주옥같은 멘트를 달아 주셔서 정말 감사합니다. > >그리고 실험에 관한 항목을 말씀 드렸어야 했는데.. 죄송합니다. > >O/C(Overcoating) Glass 플라즈마 처리(세정)을 하여 접촉각을 측정하려고 합니다. > >현재 가스는 CDA(O2) 와 질소(N2)를 사용하며, O2와 N2를 사용하기 때문에 고전압, 저주파수를 인가하여 사용하고 있습니다.(상압과 약진공 모두) > >실험을 해보았는데, 결과가 좋지 않아 조건을 바꾸려고 합니다. > >그렇기 때문에 라디칼 농도를 계산해서 온도, 전극면적, 가스량, 가스온도, 등의 조건을 바꾸어서 실험을 하려 합니다. > >그렇게 때문에 이렇게 문의를 드리게 되었습니다. > >고수님들의 많은 답변 부탁드립니다. >