지식나눔

플라즈마에서 O radical을 사용하여 PR Ashing 관련

안녕하세요~~ 궁금한 점이 있어 이렇게 글을 올리게 되었습니다. 플라즈마를 방전 O radical로 PR을 ashing 할때 PR이 ashing 되는 것에 대한 공식이 있다고 들었습니다. 라디칼 마다 그 공식이 다른것으로 알고 있습니다. 제가 궁금한것은 O radical로 PR을 ashing 할 경우 각각의 변수에 대하여(물론 실제와는 틀리겠지만) 이론적인 공식을 알고 싶습니다. 고수님들 많이 도와주세요~~ 그리고 감기 조심하세요~~
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