2008-05-29
org.kosen.entty.User@53ea6046
백관열(pky1004)
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모두 아시다시피 양자점은 합성후 그 표면에 소수성 물질로 되어 있어,
물에 분산되지 않는데요, 그래서 저도 그 소수성 표면위에 친수성 물질로
코팅을 하는 실험을 하고 있습니다.
제가 하는 방법은 소수성과 친수성 을 모두 갖는 물질을 이용해
hydrophobic interaction을 통해서 양자점 표면의 소수성 물질과
코팅물질의 소수성부분을 결합하는 방법인 encapsulation 방법인데요.
일반적으로 논문에는 encapsulation시 양자점을 클로로포름에 분산시키고,
그곳에 코팅하고자 하는 물질을 넣으면 된다고 나와있습니다.
그런데 저는 여러 논문에 나온 다양한 조건들로 해봐도 되지 않더라구요..
혹시 다른 방법이 잇는지,
고수님들 도와주세요.
그리고 저와 비슷한 연구를 하시는 분있나요??
제가 이제 석사 1년차인데, 저혼자만 이 분야를 연구해서, 정말 답답합니다.
혹시 비슷한 연구하시는 분들이 계시면 정보교류 해요,.
sky821231@hanmail.net
- quantum dot
- encapsulation
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답변 3
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답변
한정현님의 답변
2008-05-29- 0
양자점 표면에 코팅된 소수성 코팅물질(아마 대부분은 TOPO )은 톨루엔에 분산된 양자점 뿐만아니라 톨루엔에도 상당량이 녹아있습니다. 이걸 그냥 톨루엔 만 제거하고 계면활성제를 이용하여 코팅 시킬 경우 물에 분산시킨 용액이 매우 탁하고 잘 만들어지지 않게됩니다. 대분분 메탄올을 이용하여 3회정도 원심분리 침전법으로 washing 후에 클로로포름에 재 분산시키고, 이후 원하는 추가 코팅물질을 첨가시킨다음(물질상태에 따라 혼합용액을 오랜시간 교반하거나 초음파를 이용하여 분산상을 균일분산될 수 있게 만들어주면 더욱 좋습니다.) 클로로포름을 완전히 날려보낸뒤에 물에 재분산시킴니다. 이러면 대부분 물에 잘 분산된 양자점을 만들 수 있습니다. washing이 잘되었다면, 물분산제의 양, 양자점의 양, 재분산 시 물의 양을 고려하여 좋은 조건을 찾는게 중요할것 같습니다. 아랫글 또한 같은 맥락인듯한데 양자점의 합성 목적이 소수성 용매에 잘 분산되는 양자점의 합성입니다. 일단 반응을 시키면 양자점을 코팅한 물질은 항상 과량을 사용하기 때문에 반응용기 안에 미 반응물이 존재하게 됩니다. 이러한 미반응 물들은 세척과정을 통해 제거해야 하며 이러한 제거 과정에서 메탄올을 사용하는 이유는 용해도 차이를 이용하여 양자점을 침전시켜 상층액과 잘 분리시키기 위해서 입니다. 소수성 코팅된 양자점은 메탄올에 분산이 잘 않됩니다. 그러나 톨루엔이나 클로로포름에는 분산이 잘되죠. 용해도차이 때문에 이러한 현상이 생기게 되며, 이러한 현상을 이용하여 반복적으로 메탄올로 여러번 침전시켜 상층액과 분리하여 세척을 하게되면 미 반응물들이 점진적으로 제거되게 되죠. 순 소수-코팅된 양자점 만을 얻기위한 세척 방법이라고 이해하시면됩니다. -
답변
백관열님의 답변
2008-05-29- 0
답변 정말 감사드립니다. 제가 washing과정이 좀 부족했던듯 싶습니다. 코팅후 물에 분산시켰을때 용액이 탁했거든요. 그런데 답변중에 메탄올을 이용하여 원심분리 침전법이라고 하셨는데 톨루엔과 메탄올을 같이 넣어주고, 원심분리기를 이용하여 원심분리한다는 뜻인가요? 아니면 톨루엔과 메탄올을 넣어서 분리해낸 용액(톨루엔)만을 다시 원심분리 한다는 뜻인가요? -
답변
한정현님의 답변
2008-05-30- 0
이 용액(단위 부피당 몇 mg인지는 모르나)을 100~1000ul정도를 취하여 메탄올 40~50ml에 첨가시키고 3500rpm에서 원심분리하면 양자점이 가라앉습니다. 이 방법을 3회정도 반복한 다음 침전된 양자점을 취하여 클로로포름에 재분산시킵니다. 다음 과정은 물에 분산시키기 위한 과정을 순차적으로 진행시키면 됩니다. 순 메탄올 만을 사용해서 진행하시면 됩니다.