2008-09-04
org.kosen.entty.User@65c4ab88
조정희(l234)
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제가 ZnO 박막과 SiO2 또는 SiN가 성장된 박막으로 실험을 하고 있는데,
ZnO는 에칭이 되지 않고, SiO2 또는 SiN만을 선택적으로 에칭하는 솔루션을 찾고 싶습니다.
CF4를 이용하여 dry etching을 시도해보았으나, 여러가지 다른 실험 여건상 dry etching이 반복적으로 시도되기 어려운 상황이라,
되도록이면 wet etching이 가능하였으면 좋겠습니다.
답변 부탁드려요^-^
- ZnO
- wet etch
- chemical
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답변 1
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답변
박형건님의 답변
2008-09-16- 0
acetic acid/phosphoric acid/water [1:1:30] etchant 에서 etching selectivity가 polysilicon: 50, silicon nitride: 50, zinc oxide: 1 로 나온다는 데이터가 있네요. 자세한 실험조건은 url을 참조하세요. > >제가 ZnO 박막과 SiO2 또는 SiN가 성장된 박막으로 실험을 하고 있는데, >ZnO는 에칭이 되지 않고, SiO2 또는 SiN만을 선택적으로 에칭하는 솔루션을 찾고 싶습니다. > >CF4를 이용하여 dry etching을 시도해보았으나, 여러가지 다른 실험 여건상 dry etching이 반복적으로 시도되기 어려운 상황이라, >되도록이면 wet etching이 가능하였으면 좋겠습니다. > >답변 부탁드려요^-^