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솔라셀 표면 텍스쳐링

공부하는 도중 궁금해서요 일단 벌크 타입으로 웨이퍼 텍스쳐링하고 있는데요 wet 과 dry 에칭을 사용하는데 있어서 서로의 장단점을 알고싶습니다... 한줄이라도 좋으니 도움주세요^^ 감사합니다
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    정재현님의 답변

    >공부하는 도중 궁금해서요 >일단 벌크 타입으로 웨이퍼 텍스쳐링하고 있는데요 >wet 과 dry 에칭을 사용하는데 있어서 >서로의 장단점을 알고싶습니다... >한줄이라도 좋으니 도움주세요^^ >감사합니다 Texture Etching 태양전지 표면에서의 광반사를 줄여서 태양전지 내부로 유효광의 흡수량을 증가시킬 목적으로 KOH-IPA-H2O 용액에서 Etching을 실시하여 10㎛ 크기 이내의 Pyramid 조직을 Wafer 표면에 형성시키는 것이 일반적입니다. Wet Etching은 wet chemical solution을 사용해서 Isotropic한 etching을 할 때 사용되며, Dry Etching은 Plasma를 사용해서 Anisotropic한 etching을 할 때 사용합니다. Wet Etching은 높은 selectivity를 갖지만 CD loss 나 Gain이 발생하는 반면 Dry Etching은 상대적으로 낮은 selectivity를 갖지만 CD bias가 발생하지 않습니다.
    >공부하는 도중 궁금해서요 >일단 벌크 타입으로 웨이퍼 텍스쳐링하고 있는데요 >wet 과 dry 에칭을 사용하는데 있어서 >서로의 장단점을 알고싶습니다... >한줄이라도 좋으니 도움주세요^^ >감사합니다 Texture Etching 태양전지 표면에서의 광반사를 줄여서 태양전지 내부로 유효광의 흡수량을 증가시킬 목적으로 KOH-IPA-H2O 용액에서 Etching을 실시하여 10㎛ 크기 이내의 Pyramid 조직을 Wafer 표면에 형성시키는 것이 일반적입니다. Wet Etching은 wet chemical solution을 사용해서 Isotropic한 etching을 할 때 사용되며, Dry Etching은 Plasma를 사용해서 Anisotropic한 etching을 할 때 사용합니다. Wet Etching은 높은 selectivity를 갖지만 CD loss 나 Gain이 발생하는 반면 Dry Etching은 상대적으로 낮은 selectivity를 갖지만 CD bias가 발생하지 않습니다.
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    정재현님의 답변

    Etching Technology 관련자료를 첨부해드립니다.
    Etching Technology 관련자료를 첨부해드립니다.
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