2008-09-22
org.kosen.entty.User@3c1d4852
이근우(kkeun8722)
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안녕하세요..
상압 플라즈마 관련 하여 공부하고 있는 학생입니다.
저희가 전원 전극은 세라믹을 사용중이며, 하부 전극은 알루미늄 아노다이징 전극을 사용중입니다. 두께는 경질 아노다이징30um입니다.
전원은 RF 전원을 사용중입니다.
플라즈마 방전 중 하부 전극의 휨현상이 발생하였습니다.
하지만 휨 현상 발생이 전 영역이 아닌, 한 부분에서만 발생하였습니다.
휨 현상 당시 하부전극 온도는 약 70도였습니다.
예전 MF 전원 사용시에는 90도에서도 휨 현상은 발생하지 않았는데, 왜 70도에서 휨 현상이 발생하였는지 궁금합니다.
알루미늄 하부 전극의 경우, 가공 전 열처리를 하지 않는다고 합니다.
혹시 그것 하고 상관이 있는지......
여러모로, 이해가 가질 않습니다..
고수님들의 많은 답변 부탁드립니다.
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 2
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답변
안길홍님의 답변
2008-09-23- 0
알미늄의 표면이 100% clean 및 평탄하지 못하고, 미세한 흠집이나 돌기,미세 오염 등으로 인하여 그곳에 전기적인 힘이 집중된 현상입니다. Bare 알미늄을 꼭 사용하여야 한다면 표면의 상태를 매우 세심히 점검하여야 하며, bare상태가 아니라도 괜찮다면 전도성 용액을 표면에 얇게 도포하여서 사용하시면 흠집 사이에 용액이 충전되어서 이러한 현상을 완화할 수 있습니다. -
답변
고상운님의 답변
2008-09-30- 0
>안녕하세요.. > >상압 플라즈마 관련 하여 공부하고 있는 학생입니다. > >저희가 전원 전극은 세라믹을 사용중이며, 하부 전극은 알루미늄 아노다이징 전극을 사용중입니다. 두께는 경질 아노다이징30um입니다. > >전원은 RF 전원을 사용중입니다. > >플라즈마 방전 중 하부 전극의 휨현상이 발생하였습니다. > >하지만 휨 현상 발생이 전 영역이 아닌, 한 부분에서만 발생하였습니다. > >휨 현상 당시 하부전극 온도는 약 70도였습니다. > >예전 MF 전원 사용시에는 90도에서도 휨 현상은 발생하지 않았는데, 왜 70도에서 휨 현상이 발생하였는지 궁금합니다. > >알루미늄 하부 전극의 경우, 가공 전 열처리를 하지 않는다고 합니다. > >혹시 그것 하고 상관이 있는지...... > >여러모로, 이해가 가질 않습니다.. > >고수님들의 많은 답변 부탁드립니다. 아노다이징 처리를 하셨다면 흠집이 발생되지는 않은것 같고,아노다이징 도막 두께를 10,20,30,40,50미크론 등으로 변경 후 테스트 해 보심이 좋을거 같습니다.