2008-12-01
org.kosen.entty.User@120bf7ef
박재경(espjk)
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TFT의 active layer로 ZnO를 사용하려고 합니다.
스퍼터링 방법으로 ZnO를 증착하려고 하는데요
TFT 소자 특성을 향상시키기 위해 어떤 후공정 처리를 하나요?
예를 들어 열처리를 한다거나 도핑을 하는 방법 등으로요..
자료가 있거나 좋은 사이트가 있으면 알려주세요.
최근 동향이 필요합니다.
active layer로 사용하는 ZnO 증착방법에 대한 자료는 많은데 후공정 처리는 찾지 못하겠네요.
부탁드리겠습니다.
- ZnO
- active layer
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답변 1
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답변
오동현님의 답변
2008-12-01- 0
일반적으로 ZnO는 증착후 n type 특성을 나타냅니다. p-type으로 만들려면 여러 형태의 Gas (N2같은)를 통한 도핑 공정이 도입이 되게 됩니다. 만드시려는 소자가 단순히 hard mask를 이용한 단위 소자라면 공정상 별 문제는 없을것으로 판단됩니다만, 이러한 경우에는 Passivation 증이 존재하지 않을시 장기 신뢰성에 영향을 주게 됩니다. 따라서 적절한 Passivation증을 선택해서 증착하는게 key라고 할수 있습니다. 이러한 방법이 아닌 Photolithography와 결합하는 공정이라면 문제는 좀더 복잡해 집니다. 상부의 S/D metal을 뭘 쓰느냐, 그리고 그 etching을 뭘로 하느냐에 따라 많은 시행착오를 지속적으로 하셔야 할 듯 합니다. 특히 wet etch를 하는 경우라면 이러한 문제는 더욱 심각해 집니다. ZnO의 경우에는 mild한 etchant에도 녹는 재료 입니다. (흔히 박카스에도 녹는다고도 하죠 ㅋㅋㅋ) 따라서 상부 재료 etching을 잘 하는게 Key 입니다. 관련 논문을 봐도 이러한 detail은 잘 언급이 되어 있지 않습니다. 찾아서 직접 해 보는게 가장 좋은 방법이구요 주위에 관련 업무를 한 사람이 있으면 집요하게 물어보는게 방법이겠지요~^^ 말씀하신 도핑이나 열처리를 하는 공정이 ZnO에 좋은 영향을 끼친다는 논문은 많이 있습니다.하지만 그와 반대되는 결과도 동시에 존재합니다. As depo 상태가 가장 좋다는 이야기도 있습니다. ^^ 큰 도움을 드리지 못해 죄송합니다. ㅋ