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박막 증착시, PET와 GLASS의 차이

박막에 대해서 공부를 시작해보려는 학생입니다. 박막 증착시 최적 조건이 PET와 GLASS가 다르게 나왔는데 GLASS보다 PET에서 더 낮은 파워와 더 낮은 워킹 프레셔에서 최적 조건이 잡혔습니다. 왜 그럴까 생각하면서 논문을 찾아보다가 시원한 이유가 나와있지 않아서 질문해봅니다.
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    김도형님의 답변

    일반적으로 기판이 달라지면 증착 조건이 달라집니다. 그러나 사실 이것은 거의 case by case이기 때문에 딱히 그 이유를 찾기가 힘듭니다. 다만 유리와 PET의 경우를 유추해 보면 기판 damage와 관련이 있지 않나 추측해 봅니다. 질문하신 문맥으로 볼 때 플라즈마 스퍼터링 방법으로 증착을 하시는 것 같은데 이 경우 PET는 표면 손상의 우려가 있습니다. 표면의 roughness가 증가하면 막이 형성되기 어렵고요. 따라서 유리보다는 PET 기판이 낮은 파워에서 최적 조건을 보이지 않나 예상해 봅니다. 파워가 감소하게 되면 mean free path 문제로 working pressure는 일반적으로 감소해야 하고요. 위에서도 말씀드렸듯이 원자 계산 등을 해서 surface reaction을 계산해 보기 전에는 그 이유를 알기 어렵기 때문에 그냥 한번 이유를 생각해 보았습니다. >박막에 대해서 공부를 시작해보려는 학생입니다. >박막 증착시 최적 조건이 PET와 GLASS가 다르게 나왔는데 >GLASS보다 PET에서 더 낮은 파워와 더 낮은 워킹 프레셔에서 >최적 조건이 잡혔습니다. 왜 그럴까 생각하면서 >논문을 찾아보다가 시원한 이유가 나와있지 않아서 질문해봅니다.
    일반적으로 기판이 달라지면 증착 조건이 달라집니다. 그러나 사실 이것은 거의 case by case이기 때문에 딱히 그 이유를 찾기가 힘듭니다. 다만 유리와 PET의 경우를 유추해 보면 기판 damage와 관련이 있지 않나 추측해 봅니다. 질문하신 문맥으로 볼 때 플라즈마 스퍼터링 방법으로 증착을 하시는 것 같은데 이 경우 PET는 표면 손상의 우려가 있습니다. 표면의 roughness가 증가하면 막이 형성되기 어렵고요. 따라서 유리보다는 PET 기판이 낮은 파워에서 최적 조건을 보이지 않나 예상해 봅니다. 파워가 감소하게 되면 mean free path 문제로 working pressure는 일반적으로 감소해야 하고요. 위에서도 말씀드렸듯이 원자 계산 등을 해서 surface reaction을 계산해 보기 전에는 그 이유를 알기 어렵기 때문에 그냥 한번 이유를 생각해 보았습니다. >박막에 대해서 공부를 시작해보려는 학생입니다. >박막 증착시 최적 조건이 PET와 GLASS가 다르게 나왔는데 >GLASS보다 PET에서 더 낮은 파워와 더 낮은 워킹 프레셔에서 >최적 조건이 잡혔습니다. 왜 그럴까 생각하면서 >논문을 찾아보다가 시원한 이유가 나와있지 않아서 질문해봅니다.
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    김기범님의 답변

    >박막에 대해서 공부를 시작해보려는 학생입니다. >박막 증착시 최적 조건이 PET와 GLASS가 다르게 나왔는데 >GLASS보다 PET에서 더 낮은 파워와 더 낮은 워킹 프레셔에서 >최적 조건이 잡혔습니다. 왜 그럴까 생각하면서 >논문을 찾아보다가 시원한 이유가 나와있지 않아서 질문해봅니다. 답일지 더 ?갈리게 하는 이야길 지는 모르겠습니다만 저도 이런 류의 디스커션을 무척좋아하는지라 적어봅니다. 먼저 어떤 재료(금속, 산화물, 질화물, 기타 세라믹...)를 어떤 성막방법(SPT, thermal, e-beam, PLD, CVD)으로 depo하는지는 질문에 나와 있지를 앉아 모르겠지만 파워와 워킹프레셔라는 힌트와 TCO라는 키워드로 아마 ITO를 스퍼터로 증착하는는가 보구나 하고 짐작해 봅니다. (좋은 답을 얻기위해선 좋은 질문방법도 필요하답니다. ^^) depo. process에서의 dynamics 관점에서의 이야기는앞에 분이 잘 설명을 해주셨으니 산화물 박막이라는 가정하에 기판과의 chemical reaction이란 관점에서도 생각을 해볼 수 있을 것 같습니다. 스퍼터링 된 ITO가 기판위에서 다시 denstification될 때 PET냐 glass(SiO2)냐에 따라서 기판계면에서의 산소공공의 농도가 달라집니다. 그러면 상대적으로 산소결손이 많아짐에 따라 투과특성과 캐리어농도도 변화합니다. 좀 더 자세한 조건을 알려주시면 좀 더 생각해 보겠습니다.
    >박막에 대해서 공부를 시작해보려는 학생입니다. >박막 증착시 최적 조건이 PET와 GLASS가 다르게 나왔는데 >GLASS보다 PET에서 더 낮은 파워와 더 낮은 워킹 프레셔에서 >최적 조건이 잡혔습니다. 왜 그럴까 생각하면서 >논문을 찾아보다가 시원한 이유가 나와있지 않아서 질문해봅니다. 답일지 더 ?갈리게 하는 이야길 지는 모르겠습니다만 저도 이런 류의 디스커션을 무척좋아하는지라 적어봅니다. 먼저 어떤 재료(금속, 산화물, 질화물, 기타 세라믹...)를 어떤 성막방법(SPT, thermal, e-beam, PLD, CVD)으로 depo하는지는 질문에 나와 있지를 앉아 모르겠지만 파워와 워킹프레셔라는 힌트와 TCO라는 키워드로 아마 ITO를 스퍼터로 증착하는는가 보구나 하고 짐작해 봅니다. (좋은 답을 얻기위해선 좋은 질문방법도 필요하답니다. ^^) depo. process에서의 dynamics 관점에서의 이야기는앞에 분이 잘 설명을 해주셨으니 산화물 박막이라는 가정하에 기판과의 chemical reaction이란 관점에서도 생각을 해볼 수 있을 것 같습니다. 스퍼터링 된 ITO가 기판위에서 다시 denstification될 때 PET냐 glass(SiO2)냐에 따라서 기판계면에서의 산소공공의 농도가 달라집니다. 그러면 상대적으로 산소결손이 많아짐에 따라 투과특성과 캐리어농도도 변화합니다. 좀 더 자세한 조건을 알려주시면 좀 더 생각해 보겠습니다.
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