2010-01-19
org.kosen.entty.User@dea01dd
이근우(kkeun8722)
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고수님들께 여쭙니다.
반도체 관련 장비에서 precursor(source) line이 오염되어 있습니다.
예상되는 Impurity는 Carbon, Fluorine입니다.
Solvent(Hexane)로 Line Flushing(cleaning) 시 Carbon 과 Fluorine이 제거 될까요?
제거 된다면 이와 관련된 논문 좀 주실 수 있나요?
부탁드립니다.
- Fluorine
- Solvent
- hexane
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 2
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답변
이상후님의 답변
2010-01-21- 0
>고수님들께 여쭙니다. >반도체 관련 장비에서 precursor(source) line이 오염되어 있습니다. >예상되는 Impurity는 Carbon, Fluorine입니다. >Solvent(Hexane)로 Line Flushing(cleaning) 시 Carbon 과 Fluorine이 제거 될까요? >제거 된다면 이와 관련된 논문 좀 주실 수 있나요? >부탁드립니다. > Hexane같은 non-flammable solvent로 precursor line을 cleaning할때, carbon이나 fluorine같은 impurity들을 제거할 수 있다는 특허 자료가 있습니다. 링크를 참고하세요. -
답변
안길홍님의 답변
2010-01-22- 0
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