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지식나눔

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Sputtering target 사용 효율 증가 위한 기술 개발 동향

2010-04-25 org.kosen.entty.User@26ef2f3b 이상준(pinbam)
  • 1
Magnetron Sputtering으로 박막 증착 시 magnetic field에 의해 target에 erosion ring과 같은 profile이 형성 됩니다. 실제 target의 사용량은 25~30% 정도인데, 혹시 target의 사용량 (utilization)을 향상 시키기 위한 기술 개발 현황과 향후 기술 개발 방향에 대해 알고 싶습니다. 관련 자료나 업체에 대한 소개 부탁드립니다.
  • Magnetron sputtering
  • target
  • erosion ring
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답변 1
  • 답변

    이철환님의 답변

    2010-04-26
    • 2
    현재 다양한 Sputter 장비 업체에서 Target의 사용효율을 상승 시키기 위한 기술 개발을 하고 있습니다. 그중에서 가장 보편화 되어있는 기술은 Magnetron Sputtering의 경유 실린더 형태의 Rotary Target이 있으며, Ion Beam을 이용하는 HI-TUS 방식의 개발도 되고 있습니다. Rorary Target의 사용효율은 70~80%정도로 매우 높은 효율을 가지고 있고 대면적화도 용이한 장점을 가지고 있습니다. 하지만 Target의 제작이 까다로와 Target의 가격이 좀 높은 것이 흠입니다. HiTUS방식은 대면적화에 대한 기술개발이 진행중인 것으로 알고 있습니다. HiTUS방식은 www.plasma-quest.com 에 방문하시면 자료를 얻을 수 있습니다.
    답변수정
    현재 다양한 Sputter 장비 업체에서 Target의 사용효율을 상승 시키기 위한 기술 개발을 하고 있습니다. 그중에서 가장 보편화 되어있는 기술은 Magnetron Sputtering의 경유 실린더 형태의 Rotary Target이 있으며, Ion Beam을 이용하는 HI-TUS 방식의 개발도 되고 있습니다. Rorary Target의 사용효율은 70~80%정도로 매우 높은 효율을 가지고 있고 대면적화도 용이한 장점을 가지고 있습니다. 하지만 Target의 제작이 까다로와 Target의 가격이 좀 높은 것이 흠입니다. HiTUS방식은 대면적화에 대한 기술개발이 진행중인 것으로 알고 있습니다. HiTUS방식은 www.plasma-quest.com 에 방문하시면 자료를 얻을 수 있습니다.
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