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니켈을 반도체 장비에 사용시 오염을 유발시키나요?

안녕하세요? 현재 장비내에 Baffle(Grid,GDP:Gas Distribution Plate)을 알루미늄으로 사용하고 있는데, 플라즈마 소스가 point source여서 Baffle의 center 부근에 온도가 높아서 수개월 사용후 Baffle이 심하게 휘어지는 현상이 나타납니다. 대략 온도는 700도 정도가 가해질것으로 추측하고 있습니다. 이 문제를 해결하기 위해서 Nickel을 고려하고 있는데 Al보다 Melting point가 높아서 사용하면 큰 문제는 없을것 같은데 혹시 공정후 기판에 있는 소자에 오염을 유발시키는 문제를 낳을만한 소지가 있는지 해서 전문가들의 의견을 들어보고 실행하고자 합니다. 답변 주시면 감사하겠습니다.
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