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지식나눔

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HfO2 표면에 묻어 있는 Al을 제거 하는 방법이 있을까요?

2010-10-27 org.kosen.entty.User@7376eeb6 김민철(jjang2580x)
  • 1
제목 그대로 HfO2 위에 증착된 Al을 HfO2의 데미지 없이 제거하는 방법이 있는지 궁금해서요 산 종류에 담글경우 HfO2가 데미지를 입지 않을지 궁금합니다.
  • HfO2
  • Al
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답변 1
  • 답변

    한용희님의 답변

    2010-10-27
    • 2
    Al은 일반적으로 강한 알카리 용액에 침식됩니다. 시중에서 판매되는 Al etchant를 사용하시면 산화막에 영향은 없을 듯 합니다. 혹시 AZ계열 포토레지스트의 Developer(MIF,400K등등)를 가지고 계시다면 이용액에 담그시면 산화막에 attack 없이 Al을 제거하실 수 있습니다. > 제목 그대로 HfO2 위에 증착된 Al을 HfO2의 데미지 없이 제거하는 방법이 있는지 궁금해서요 > >산 종류에 담글경우 HfO2가 데미지를 입지 않을지 궁금합니다. > >
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    Al은 일반적으로 강한 알카리 용액에 침식됩니다. 시중에서 판매되는 Al etchant를 사용하시면 산화막에 영향은 없을 듯 합니다. 혹시 AZ계열 포토레지스트의 Developer(MIF,400K등등)를 가지고 계시다면 이용액에 담그시면 산화막에 attack 없이 Al을 제거하실 수 있습니다. > 제목 그대로 HfO2 위에 증착된 Al을 HfO2의 데미지 없이 제거하는 방법이 있는지 궁금해서요 > >산 종류에 담글경우 HfO2가 데미지를 입지 않을지 궁금합니다. > >
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