지식나눔

Silicon nitride 박막 공정

silicon nitride 박막을 증착하는 과정에 대한 질문입니다.
일반적으로 진행되는 과정이 Si Wafer상에서 진행되는것 같은데

혹시 glass 혹은 Si wafer에 Al2O3를 먼저 증착시키고 그 위에 Silicon nitride를 올릴 수는 없는건가요?

전공이 생명공학이라 지식이 많지 않아..질문을 올립니다.
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  • 실리콘 산화질화막
  • Silicon nitride
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답변 3
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    김상문님의 답변

    >silicon nitride 박막을 증착하는 과정에 대한 질문입니다. >일반적으로 진행되는 과정이 Si Wafer상에서 진행되는것 같은데 > >혹시 glass 혹은 Si wafer에 Al2O3를 먼저 증착시키고 그 위에 Silicon nitride를 올릴 수는 없는건가요? > >전공이 생명공학이라 지식이 많지 않아..질문을 올립니다. >답변부탁드릴께요 [ 답 변 ] 가능합니다. PECVD를 사용합니다. silicon nitride(Si3N4) 박막은 보통 반도체 회로를 보호하기 위한 보호막, 부동태막으로 사용됩니다. TFT-LCD 같은 경우 유리 위에 형성합니다. 유리 위에 Al2O3를 증착하고 Si3N4막을 형성 후 어떻게 사용하실 건지요? 왜 그렇게 할려고 하는지 모르겠습니다.
    >silicon nitride 박막을 증착하는 과정에 대한 질문입니다. >일반적으로 진행되는 과정이 Si Wafer상에서 진행되는것 같은데 > >혹시 glass 혹은 Si wafer에 Al2O3를 먼저 증착시키고 그 위에 Silicon nitride를 올릴 수는 없는건가요? > >전공이 생명공학이라 지식이 많지 않아..질문을 올립니다. >답변부탁드릴께요 [ 답 변 ] 가능합니다. PECVD를 사용합니다. silicon nitride(Si3N4) 박막은 보통 반도체 회로를 보호하기 위한 보호막, 부동태막으로 사용됩니다. TFT-LCD 같은 경우 유리 위에 형성합니다. 유리 위에 Al2O3를 증착하고 Si3N4막을 형성 후 어떻게 사용하실 건지요? 왜 그렇게 할려고 하는지 모르겠습니다.
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    오영제님의 답변

    >silicon nitride 박막을 증착하는 과정에 대한 질문입니다. >일반적으로 진행되는 과정이 Si Wafer상에서 진행되는것 같은데 > >혹시 glass 혹은 Si wafer에 Al2O3를 먼저 증착시키고 그 위에 Silicon nitride를 올릴 수는 없는건가요? > >전공이 생명공학이라 지식이 많지 않아..질문을 올립니다. >답변부탁드릴께요 가능합니다. glass 혹은 Al2O3/Si 기판에 silicon nitride 증착 가능합니다. 일반적으로 기판 종류에 따라. 형성되는 SiN 의 결정성이 차이납니다.
    >silicon nitride 박막을 증착하는 과정에 대한 질문입니다. >일반적으로 진행되는 과정이 Si Wafer상에서 진행되는것 같은데 > >혹시 glass 혹은 Si wafer에 Al2O3를 먼저 증착시키고 그 위에 Silicon nitride를 올릴 수는 없는건가요? > >전공이 생명공학이라 지식이 많지 않아..질문을 올립니다. >답변부탁드릴께요 가능합니다. glass 혹은 Al2O3/Si 기판에 silicon nitride 증착 가능합니다. 일반적으로 기판 종류에 따라. 형성되는 SiN 의 결정성이 차이납니다.

    HDP CVD로 양질의 박막 형성 가능합니다.

    HDP CVD로 양질의 박막 형성 가능합니다.

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    이정환님의 답변

    일반적으로 Si wafer 상에 Silicon nitride 박막을 증착하는데는 LPCVD(Low Pessure Chemical Vapor Deposition) 장비가 사용됩니다. 다소 고온에서 공정이 되기 때문에, Glass 기판의 종류가 어떤것인지 모르겠지만, Glass가 깨질 수도 있으니 PE-CVD(Plasma-enhanced CVD) 장비를 추천합니다. (Sodalime, Pyrex, Quartz 등) Si/Al2O3 기판이나, Glass/Al2O3 기판상에도 증착이 가능합니다. 다만, PE-CVD 공정으로 형성된 박막은 정확히 silicon nitride(Si3N4)가 형성되지 않고 SixNy의 형태로 형성될 수 있으니, 주의하시길 바랍니다. 디바이스 상에 절연막으로 사용하실것이 아니라, 바이오 쪽에 사용하실 것이라면 PE-CVD 방법도 괜찮을것 같습니다. >silicon nitride 박막을 증착하는 과정에 대한 질문입니다. >일반적으로 진행되는 과정이 Si Wafer상에서 진행되는것 같은데 > >혹시 glass 혹은 Si wafer에 Al2O3를 먼저 증착시키고 그 위에 Silicon nitride를 올릴 수는 없는건가요? > >전공이 생명공학이라 지식이 많지 않아..질문을 올립니다. >답변부탁드릴께요
    일반적으로 Si wafer 상에 Silicon nitride 박막을 증착하는데는 LPCVD(Low Pessure Chemical Vapor Deposition) 장비가 사용됩니다. 다소 고온에서 공정이 되기 때문에, Glass 기판의 종류가 어떤것인지 모르겠지만, Glass가 깨질 수도 있으니 PE-CVD(Plasma-enhanced CVD) 장비를 추천합니다. (Sodalime, Pyrex, Quartz 등) Si/Al2O3 기판이나, Glass/Al2O3 기판상에도 증착이 가능합니다. 다만, PE-CVD 공정으로 형성된 박막은 정확히 silicon nitride(Si3N4)가 형성되지 않고 SixNy의 형태로 형성될 수 있으니, 주의하시길 바랍니다. 디바이스 상에 절연막으로 사용하실것이 아니라, 바이오 쪽에 사용하실 것이라면 PE-CVD 방법도 괜찮을것 같습니다. >silicon nitride 박막을 증착하는 과정에 대한 질문입니다. >일반적으로 진행되는 과정이 Si Wafer상에서 진행되는것 같은데 > >혹시 glass 혹은 Si wafer에 Al2O3를 먼저 증착시키고 그 위에 Silicon nitride를 올릴 수는 없는건가요? > >전공이 생명공학이라 지식이 많지 않아..질문을 올립니다. >답변부탁드릴께요
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