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웨이퍼 성장관련 2차 문의

[1] Wafering 시에 (100) 방향으로 성장된 wafer의 Flat zone 방향에는 왜 (010) or (001)이 아닌 (110)으로 표기를 하는지요?

==> 아직 명쾌한 답변을 얻지 못하였습니다. 고수님들의 답변을 부탁드립니다.

 

[2] PMOS & NMOS는 결정방향에 따라 소자 특성이 어떠한 차이를 보이는지요?

==> 답변완료

  • 웨이퍼 성장
  • 밀러지수
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답변 1
  • 답변

    한진우님의 답변

     Flat Zone을 (110)으로 표시하는 이유는 1) 공정시 웨이퍼 정렬 기준으로 사용하면서 2) 잘 쪼개지기 때문입니다.

    웨어퍼 공정을 다 마친 후 웨이퍼를 바둑판 모양으로 잘라서(다이싱) 칩을 만들게 되는데요, (100), (111), (110) 면 중 (110)면이 가장 이쁘게 잘 잘라집니다. (110)면과 수직인 면도 역시 (110)면이기 때문에 웨이퍼를 가로세로로 정교하게 잘라낼 수 있습니다.

    이러한 이유로 (110)면을 Flat zone으로 사용합니다. 

    -------------------------------------질문-------------------------------------

    [1] Wafering 시에 (100) 방향으로 성장된 wafer의 Flat zone 방향에는 왜 (010) or (001)이 아닌 (110)으로 표기를 하는지요?

    ==> 아직 명쾌한 답변을 얻지 못하였습니다. 고수님들의 답변을 부탁드립니다.

     

    [2] PMOS & NMOS는 결정방향에 따라 소자 특성이 어떠한 차이를 보이는지요?

    ==> 답변완료

     Flat Zone을 (110)으로 표시하는 이유는 1) 공정시 웨이퍼 정렬 기준으로 사용하면서 2) 잘 쪼개지기 때문입니다.

    웨어퍼 공정을 다 마친 후 웨이퍼를 바둑판 모양으로 잘라서(다이싱) 칩을 만들게 되는데요, (100), (111), (110) 면 중 (110)면이 가장 이쁘게 잘 잘라집니다. (110)면과 수직인 면도 역시 (110)면이기 때문에 웨이퍼를 가로세로로 정교하게 잘라낼 수 있습니다.

    이러한 이유로 (110)면을 Flat zone으로 사용합니다. 

    -------------------------------------질문-------------------------------------

    [1] Wafering 시에 (100) 방향으로 성장된 wafer의 Flat zone 방향에는 왜 (010) or (001)이 아닌 (110)으로 표기를 하는지요?

    ==> 아직 명쾌한 답변을 얻지 못하였습니다. 고수님들의 답변을 부탁드립니다.

     

    [2] PMOS & NMOS는 결정방향에 따라 소자 특성이 어떠한 차이를 보이는지요?

    ==> 답변완료

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