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HPLC 관련 질문 드립니다.

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안녕하세요 이번에 연구실에서 새로 유기산 컬럼을 구입하게 되었습니다. 그런데 컬럼의 문제인지 기기 문제 인지.. 새로 유기산 컬럼+ 가드 컬럼을 장착 한 이후 베이스라인에 노이즈가 생겼고 개선되질 않습니다. 자세한 데이터는 워드 파일로 첨부합니다. 1.가드 컬럼 제거 하고 베이스라인 살펴 보았지만 딱히 노이즈가 개선되진 않았습니다. 2. 일단 컬럼 빼고 조인트 연결 한 뒤 물과 아세토나이트릴로 각각 세척해보았고.. 조인트 연결 된 채 254, 210nm 파장에서 베이스 보았는데.. 완전히 깨끗하진 않은거 같아 기기 회사에 물어보니 그냥 그 정도 노이즈는 빛의간섭때문에 있을 수 있다.. 컬럼을 세척해보라고만 하시더라구요.. 광량은 문제없구요.. 3. 컬럼 세척법에 따라 4~5hr 정도 0.2-0.3 유속으로 세척해 준 다음 원래 분석 조건 용리액 걸어서 하루 정도 안정화 된 뒤.. 베이스 라인보았지만 역시나 노이즈는 나타나는 것으로 보여집니다.. 첨부한 파일은 3번까지 진행한 뒤 베이스 라인과 샘플 하나 찍어본 데이터 이구요.. 저희 연구실에서 워낙 낮은 농도의 acid 를 보기 때문에 노이즈가 심하면 피크 자체 봉우리에도 노이즈가 그대로 나타날때도 있고 옆 노이즈 까지 같이 적분시 잡아버려 정량에도 문제가 있습니다... 무엇을 더 해보아야 할지 잘 모르겠네요.. 컬럼 회사에선 컬럼 자체로 노이즈 생기긴 힘들다고 기기쪽 문제라고 그러고.. 도움 말씀 부탁드립니다. 분석 조건은 0.008N 황산, 0.6ml/min, 50'c, 210nm UV-detector 조건에서 테스트 하였습니다..
  • 분석
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  • 답변

    조윤환님의 답변

    일단 유기산 분석시 어떤 컬럼을 사용하셨는지 궁금하군요. 유기산 분석은 Ion Chromatography, sixe exclusion, hilic 등 다양한 컬럼으로 분석할 수 있기 때문입니다. 일단 질문으로 미루어 볼때 새로운 컬럼 장착 후 이전보다 노이즈 레벨이 높아 졌고, 세척을 시행했지만 완전히 개선되지 않는 상황으로 보입니다. 제 생각엔 이동상 조성으로 볼 때 이온교환수지 컬럼을 사용하신 것이 아닌가 싶습니다. 컬럼이름을 적어 주셨으면 좋았겠지만 .....적지 않으셨네요. 몇가지 의심되는 부분을 말씀드려 보겠습니다. 1.가드 컬럼 제거 하고 베이스라인 살펴 보았지만 딱히 노이즈가 개선되진 않았습니다. ==> 새컬럼 교체 전과 비교해 베이스라인 노이즈가 높아졌고 컬럼 장착 이러한 현상이 일어났다면 컬럼이 원인일 수 있으나 정확히 어떤 컬럼인지 알 수 없어 답변드리기 어렵습니다. 다만 IC용 컬럼을 사용하셨다면 컬럼으로 인한 오염이 발생했다고 보기는 어렵습니다. IC용 컬럼이외에 IC와 size exclusion이 접목된 hybrid컬럼이나 hilic 컬럼을 사용하셨다면 컬럼 매뉴얼에 따라 이동상을 교체했는지, 혹시 이동상을 흘리면서 유속을 너무 빨리 올려서 압력이 급격히 상승하진 않았는지 살펴보시기 바랍니다. 이러한 경우 컬럼 손상을 유발해서 고정상이 유실되거나 유실된 고정상이 flow cell을 오염시키기도 합니다. 2. 일단 컬럼 빼고 조인트 연결 한 뒤 물과 아세토나이트릴로 각각 세척해보았고.. 조인트 연결 된 채 254, 210nm 파장에서 베이스 보았는데.. 완전히 깨끗하진 않은거 같아 기기 회사에 물어보니 그냥 그 정도 노이즈는 빛의간섭때문에 있을 수 있다.. 컬럼을 세척해보라고만 하시더라구요.. 광량은 문제없구요.. ==> 노이즈 레벨이 크게 높아 보이진 않지만, 새컬럼 교체전 보다 더 높아졌다면 오염 때문일 수 있으므로 세척을 해보는 것이 맞지만 적절한 세척법인지 고민해볼 필요가 있습니다. 컬럼이 오염원이라면 조인트 연결 상태에서 물, 아세토니트릴 보다는 컬럼 장착 상태에서 흘렸던 이동상으로 일단 세척한 후 물/아세토니트릴로 세척해보는 것이 좋겠습니다. 3. 컬럼 세척법에 따라 4~5hr 정도 0.2-0.3 유속으로 세척해 준 다음 원래 분석 조건 용리액 걸어서 하루 정도 안정화 된 뒤.. 베이스 라인보았지만역시나 노이즈는 나타나는 것으로 보여집니다. ===> 컬럼에 이상이 있는지 확인하는 방법은 다른 HPLC에 장착해서 실험을 해보거나 컬럼 판매점에 보내서 test를 받는 것입니다. 컬럼 판매업체에선 컬럼을 테스트하는데 필요한 표준물질과 장비를 갖추고 있으므로 요청해 보시길.... 저희 연구실에서 워낙 낮은 농도의 acid 를 보기 때문에 노이즈가 심하면 피크 자체 봉우리에도 노이즈가 그대로 나타날때도 있고 옆 노이즈 까지 같이 적분시 잡아버려 정량에도 문제가 있습니다... ====> 시료의 농도가 낮아 노이즈에 간섭이 발생할 소지가 있다면 감도가 높은 방법(노이즈가 낮은)으로 분석하는 방법도 있지만, SPE 등으로 전처리해서 시료의 농도를 높이는 방법이 더 효과적일 수 있습니다.
    일단 유기산 분석시 어떤 컬럼을 사용하셨는지 궁금하군요. 유기산 분석은 Ion Chromatography, sixe exclusion, hilic 등 다양한 컬럼으로 분석할 수 있기 때문입니다. 일단 질문으로 미루어 볼때 새로운 컬럼 장착 후 이전보다 노이즈 레벨이 높아 졌고, 세척을 시행했지만 완전히 개선되지 않는 상황으로 보입니다. 제 생각엔 이동상 조성으로 볼 때 이온교환수지 컬럼을 사용하신 것이 아닌가 싶습니다. 컬럼이름을 적어 주셨으면 좋았겠지만 .....적지 않으셨네요. 몇가지 의심되는 부분을 말씀드려 보겠습니다. 1.가드 컬럼 제거 하고 베이스라인 살펴 보았지만 딱히 노이즈가 개선되진 않았습니다. ==> 새컬럼 교체 전과 비교해 베이스라인 노이즈가 높아졌고 컬럼 장착 이러한 현상이 일어났다면 컬럼이 원인일 수 있으나 정확히 어떤 컬럼인지 알 수 없어 답변드리기 어렵습니다. 다만 IC용 컬럼을 사용하셨다면 컬럼으로 인한 오염이 발생했다고 보기는 어렵습니다. IC용 컬럼이외에 IC와 size exclusion이 접목된 hybrid컬럼이나 hilic 컬럼을 사용하셨다면 컬럼 매뉴얼에 따라 이동상을 교체했는지, 혹시 이동상을 흘리면서 유속을 너무 빨리 올려서 압력이 급격히 상승하진 않았는지 살펴보시기 바랍니다. 이러한 경우 컬럼 손상을 유발해서 고정상이 유실되거나 유실된 고정상이 flow cell을 오염시키기도 합니다. 2. 일단 컬럼 빼고 조인트 연결 한 뒤 물과 아세토나이트릴로 각각 세척해보았고.. 조인트 연결 된 채 254, 210nm 파장에서 베이스 보았는데.. 완전히 깨끗하진 않은거 같아 기기 회사에 물어보니 그냥 그 정도 노이즈는 빛의간섭때문에 있을 수 있다.. 컬럼을 세척해보라고만 하시더라구요.. 광량은 문제없구요.. ==> 노이즈 레벨이 크게 높아 보이진 않지만, 새컬럼 교체전 보다 더 높아졌다면 오염 때문일 수 있으므로 세척을 해보는 것이 맞지만 적절한 세척법인지 고민해볼 필요가 있습니다. 컬럼이 오염원이라면 조인트 연결 상태에서 물, 아세토니트릴 보다는 컬럼 장착 상태에서 흘렸던 이동상으로 일단 세척한 후 물/아세토니트릴로 세척해보는 것이 좋겠습니다. 3. 컬럼 세척법에 따라 4~5hr 정도 0.2-0.3 유속으로 세척해 준 다음 원래 분석 조건 용리액 걸어서 하루 정도 안정화 된 뒤.. 베이스 라인보았지만역시나 노이즈는 나타나는 것으로 보여집니다. ===> 컬럼에 이상이 있는지 확인하는 방법은 다른 HPLC에 장착해서 실험을 해보거나 컬럼 판매점에 보내서 test를 받는 것입니다. 컬럼 판매업체에선 컬럼을 테스트하는데 필요한 표준물질과 장비를 갖추고 있으므로 요청해 보시길.... 저희 연구실에서 워낙 낮은 농도의 acid 를 보기 때문에 노이즈가 심하면 피크 자체 봉우리에도 노이즈가 그대로 나타날때도 있고 옆 노이즈 까지 같이 적분시 잡아버려 정량에도 문제가 있습니다... ====> 시료의 농도가 낮아 노이즈에 간섭이 발생할 소지가 있다면 감도가 높은 방법(노이즈가 낮은)으로 분석하는 방법도 있지만, SPE 등으로 전처리해서 시료의 농도를 높이는 방법이 더 효과적일 수 있습니다.

    안녕하세요..우선답변 감사드립니다. 컬럼은 Transgenomic 사에서 나온 ICsep ICE-COREGEL87H3 cOLUMN (ICE-99-9861)제품입니다. 특이한 점은.. 이번 컬럼을 사용하기 이전 업체에서 데모컬럼을 지원받아 사용하였을땐 베이스라인 노이즈가 전혀 없었는데.. 새 컬럼을 장착 이후 노이즈가 생겼다는 점 입니다. 위 컬럼은 특성상 황산이 포함 된 용리액 조성으로 밖에 분석, 세척이 불가한데 특별한 경우 10% 정도의 아세토나이트릴을 몇 노르말 황산 용액에 첨가해서 세척은 가능해 보였습니다.. 하지만 이 컬럼으로 몇번 분석해보질 않았기도 했고 샘플 분석 전 그냥 용리액 흘리면서 바탕선만 찍었을때부터 노이즈가 보였던 터라 무리한세척은 괜히 컬럼 성능만 떨어질까 우려되더라구요.. 일단 0.025N 황산으로 세척해보긴 했었습니다..

    말씀대로 해당 업체에 컬럼 테스트를 한번 요청해볼 생각입니다. 답변 감사드립니다!

  • 답변

    조윤환님의 답변

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    데모컬럼 테스트에선 문제가 없었는데....새 컬럼 장착 후 문제가 생겼다면 원인은 알 수 없으나 뭔가 오염이 발생한 것으로 판단됩니다. 언급하신 컬럼을 찾아보니 polystyrene based highly cross-linked column이네요. 이런 컬럼은 사실 컬럼에서 고정상이 빠져나와서 LC를 오염시키기 어렵습니다. 하지만 현상으로 볼때 뭔가 오염이 발생한 것으로 보입니다. 경우에 따라선 이동상 제조에 사용한 시약이나 용기가 문제일 수도 있습니다. 대부분의 경우 오염으로 인한 노이즈레벌 상승의 주요 오염 부위는 컴출기 유닛에 있는 flow cell 입니다. 이동상을 흘리는 세척(flushing)에 의해 좋아지지 않는다면 flow cell을 분리해서 세척하는 것이 좋습니다. 세척할 부위는 flow cell body와 quartz window 부분입니다. 일반적으로는 에탄올이나 IPA 같은 알콜류로 세척을 합니다만, 오염물질이 무엇인지 모르기 때문에 다양한 유기용매로 세척해보시길 권합니다. 처음엔 알콜로 세척하시고 EA, THF, acetone, dichloromethane 등으로 세척한 후 다시 알콜로 세척해서 장착하시면 되겠습니다. quartz window나 flow cell body에 연결부 같은 곳은 면봉에 용매를 뭍혀서 닦으시면 되는데....무리한 힘을 가해서 window가 상하지 않도록 주의하시기 바랍니다. 오염부위가 flow cell에 국한되지 않았다고 판단된면 컬럼 말단부부터 flow cell에 이르는 tubing도 교체하시는 것이 좋습니다. DIY로 하신 경험이 없다면 AS 엔지니어에게 요청해서 배우는 것도 좋겟습니다.
    데모컬럼 테스트에선 문제가 없었는데....새 컬럼 장착 후 문제가 생겼다면 원인은 알 수 없으나 뭔가 오염이 발생한 것으로 판단됩니다. 언급하신 컬럼을 찾아보니 polystyrene based highly cross-linked column이네요. 이런 컬럼은 사실 컬럼에서 고정상이 빠져나와서 LC를 오염시키기 어렵습니다. 하지만 현상으로 볼때 뭔가 오염이 발생한 것으로 보입니다. 경우에 따라선 이동상 제조에 사용한 시약이나 용기가 문제일 수도 있습니다. 대부분의 경우 오염으로 인한 노이즈레벌 상승의 주요 오염 부위는 컴출기 유닛에 있는 flow cell 입니다. 이동상을 흘리는 세척(flushing)에 의해 좋아지지 않는다면 flow cell을 분리해서 세척하는 것이 좋습니다. 세척할 부위는 flow cell body와 quartz window 부분입니다. 일반적으로는 에탄올이나 IPA 같은 알콜류로 세척을 합니다만, 오염물질이 무엇인지 모르기 때문에 다양한 유기용매로 세척해보시길 권합니다. 처음엔 알콜로 세척하시고 EA, THF, acetone, dichloromethane 등으로 세척한 후 다시 알콜로 세척해서 장착하시면 되겠습니다. quartz window나 flow cell body에 연결부 같은 곳은 면봉에 용매를 뭍혀서 닦으시면 되는데....무리한 힘을 가해서 window가 상하지 않도록 주의하시기 바랍니다. 오염부위가 flow cell에 국한되지 않았다고 판단된면 컬럼 말단부부터 flow cell에 이르는 tubing도 교체하시는 것이 좋습니다. DIY로 하신 경험이 없다면 AS 엔지니어에게 요청해서 배우는 것도 좋겟습니다.

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