2013-04-28
org.kosen.entty.User@850d94b
임민철(kenbabo)
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TEOS를 이용하여 sol-gel process를 수용액 상에서 진행한다음
형성된 silica layer를 이용하고자 할때 질문입니다.
형성된 silica layer에는 활성상태의 silanole과 ethanol, water등이 포함되어 있다고 하는데요.
이것을 제거하기 위해서 추후 heating 과정을 하게 되는 것인지요?
추후 heating을 하기 된다면 이 과정에서 얻게 되는 점은 무엇이며 적정 온도가 어떻게 되는지 알고 싶습니다.
- TEOS
- sol-gel process
- heating
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 2
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답변
강광철님의 답변
2013-04-28- 0
테오스는 물유리에비해가격ㅇㅣ 고가이지만 반응이잘 가죠.열을가해 히팅하ㅇ션중공형의 파티클이 합성이됩니다. 용도에따라 조철을해주면 중공 입자가 나노 크기에서부터 마이크로 까지합성됩니다. 그것슬가지고 여러분야세 응용하심되요. 핸드폰으로 작섬해서 오타가 많습니다. -
답변
안길홍님의 답변
2013-04-29- 0
Sol-gel method에 의하여 만들어진 후 Drying 및 heating하는 것은 (1) Densification (2) Electron density at Si decreases: R-Si>RO-Si>HO-Si>Si-O-Si 형태로 진행됨. 1차 150C에서 drying한후 400~550C에서 heating함.